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알루미늄 표면 마스크에 대한 니켈의 무전해 석출
Electroless deposition of nickel on a masked aluminum surface

등록 2008.08.03 ⋅ 66회 인용

출처 미국특허, 1978-4122215, 영어 7 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.02.13
설명된 방법은 priart 에서 요구하는 중간층 표면 활성화를 사용하지 않고 알루미늄 위에 직접 두꺼운 니켈층을 도금한다. 이 방법은 기본적으로 산화알루미늄을 동시에 제거하는 스톱 에칭액에 침지하여 표면을 활성화 한다.
  • 피리딘-피라졸론법에 의한 시안이온 연속분석은 여러가지 방법이 있다. 그러나 이러한 분석방법 중 산업 폐수등에 포함된 극소량의 시안이온에 대한 분석방법이 많이 채택되...
  • 도금피막의 막의 개선과 다층화에의 한 저저항화, 초미소 패턴의 도금선택성향상, 내열성이 높은 도금피막의 도입등의 연구
  • 산성 염화아연 도금조에서 첨가제의 영향을 관찰하였다. 8종의 다양한 첨가물을 사용하였고 Hull cell test 를 통해 효과를 연구하였다. 아연 도금은 pH 5.0-5.4, 온도 35-4...
  • ALS
    ALS · Sodium allyl Sulfonate H2C=CH-CH2-SO3Na C3H5NaO3S = 144 g/㏖ CAS : 2495-39-8 형상 : 맑은 무색 ~ 황색의 액상 ㏗ : 7.0~9.0 순도 : 25 %ㆍ35 % ALS 는 니켈 도금...
  • 단일물질에서 얻은 어려운 특징을 다른 물질을 첨가하여 분산 공석에 이한 복합도금 기술은, 최근에 화제의 하나이다. 그 응용은 주로 고체 접촉에 수반 마찰계수의 저...