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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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치환구리막의 생성기구에 관하여
The mechanism of the formation of galvanically substrated Cu-Films

등록 : 2008.08.03 ⋅ 31회 인용

출처 : 금속표면기술, 18권 2호 1967년, 일본어 9 페이지

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.09.01
체심입방형 금속상의 화학적 치환으로 석출성장된 면심입방형 금속박에 관하여, 기질과의 결정학적 관련 및 생성기구 및 구조를 조사하기 위하겨, 철면산에 석출성장된 치환구리막에 관한 연구
  • 무전해금 Au 도금용 수성욕, 니켈 및 니켈합금 피막 위에 금을 도금하기 위한 수성욕의 조합체에 관한 것이다. 조합체는 예비욕과 기본욕 및, 임의로 피클링액 및 예비처리...
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