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마이크로범프 1건
마이크로범프 형성을 위한 도금기술
Plating Technology for Micro-Bump Formation
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분류
마이크로범프 ⋅
자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.17
멀티미디어 시대에 돌입한 오늘날 이동 통신기기의 수요와 함께 전자기기의 고기능화, 소형경량화가 더욱 요구되고 마이크로 전자기술의 발전이 커지고있다. LSI 칩과 베이스 기판을 전기적으로 연결하는 방법으로 와이어본딩 방식이 사용되어 왔다. 그러나 LSI의 고기능화, 대용량화에 따라 LSI의 단자수의 증가, 전극의 미...
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황산기반 주석 전기도금 공정은 적어도 지난 70 년 동안 전기도금 산업에서 널리 사용되었다. 이들의 사용은 일반적으로 두가지 이유로 저속도금 응용분야로 제한되었다. 높...
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인청동 소재에 대하여 주석 Sn, 주석-납 Sn-Pb 도금 및 Sn/Sn-Pb 2층 도금을 하고 FE-EPMA, GD-OES, XPS 등의 분석기기로 표면형태를 상세히 조사하여, 납 Pb 의 거동을 밝...
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금속용 무전해니켈도금 안정제 건욕시 첨가량 ENP-6590 건욕시 → 첨가량 25 ml/l 보충시 첨가량 ENP-6590 연속작업시 보충량 → 100 ml/ 1 MTO 작업개시전 도금액보충과 함께...
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기능을 최고로 발휘하기 위한 화성처리 피막을 중심으로 설명
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클로로벤즈알데히드 ^ Chlorobenzaldehyde [OCBA|클로로벤즈알데히드] 참고