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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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헐셀에 의한 도금의 여러성질의 측정법과 그 문제점(하)
헐셀시험에의한 도금의 레베링 유연성 전착응력 및 내식성등의 시험방법에 관하여 설명
시험분석
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실무표면기술 · 25권 8호 1978년 · Konishi Saburo ·
참조 34회
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헐셀에 의한 도금의 여러성질의 측정법과 그 문제점(상)
헐셀시험에 의한 각종 성질의 측정법을 소개하고, 그 문제점에 관하여 설명
시험분석
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실무표면기술 · 25권 7호 1978년 · Saburo Konishi ·
참조 22회
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헐셀판에 프린트 회로용 기판을 이용하여 간단히 전류분포를 측정는 방법의 실험
시험분석
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금속표면기술 · 30권 1호 1979년 · Susumu IGAWA ·
Yasuo UCHIKOHIKI
외 ..
참조 47회
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헐셀은 음극이 양극에 비스듬하게 배열된 실험용 도금셀로, 광범위한 전류밀도의 도금은 단 한번의 전착만으로 테스트가 가능하다. 따라서이 셀은 도금상태 결정, 도금액의 구성 및 도금 욕제어에 널리 사용된다. 그러나 음극의 임의 지점에서 전류밀도를 이론적으로 정확하게 계산하기는 어렵다. 따라...
시험분석
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금속표면기술 · 29권 3호 1978년 · Ryuiti TERAKADO ·
Hideo NAGASAKA
참조 31회
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크롬도금욕의 헐셀시험에 있어서 음극의 전처리에 관하여
일반적으로 크롬도금욕의 헐셀시험은 음극재질은 구리 도는 황동판을 이용한다. 이때 크롬도금욕중의 화학적 또는 전기화학적으로 복잡한 작용이 일어나, 동일 액중에서도 피복력은 서로 다르게 일어나 판단이 어렵게 된다.
시험분석
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금속표면기술 · 10권 11호 1959년 · Toshiichi NAKAMURA ·
Tetsuo TANAKA
외 ..
참조 38회
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헬셀에 의한 도금액관리와 현장에서 불순물등의 영향을 조사하는 방법
시험분석
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금속표면기술 · 8권 3호 1957년 · 藤野 武彦 ·
참조 41회
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팩시밀리 페이퍼법에 의한 헐셀의 1차전류분포의 측정
1차전류 밀도분포가 잘알려진 헐셀의 팩시밀리 페이퍼법에 의한 측정법을 설명
시험분석
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금속표면기술 · 34권 4호 1983년 · Saburo NONISHI ·
Msayuki YOKOI
참조 31회
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헐셀캐소드의 2차전류 분포를 도전지와 마이크로 컴퓨터를 조합한 측정법으로 추축하고, 헐셀캐소드의 고전류 분포의 분극의 효과를 설명
시험분석
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금속표면기술 · 29권 11호 1982년 · Masatak MASUDA ·
Noboru Masuko
참조 33회
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하나의 시험판으로 첨가제의 과부족, 불순물의 유무등, 욕조성의 변화와 음극전류밀도의 분포 연구등을 보고
시험분석
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표면기술 · 50권 5호 1999년 · Wataru YAMAMOTO ·
Tuguo IMABAYASHI
외 ..
참조 39회
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헐셀(Hull Cell)의 전류분포에 대한 고찰
헐셀을 이용한 황산구리도금으로 만든 피막을 음극각부의 전류분포를 구하고, 등각여상법을 이용한 이론적인 전류밀도분포를 구하여, 실험결과와 비교검토한 자료
시험분석
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금속표면기술 · 27권 12호 1976년 · Ryuichi TERAKADO ·
참조 94회
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