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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...

일반적으로 크롬도금욕의 헐셀시험은 음극재질은 구리 도는 황동판을 이용한다. 이때 크롬도금욕중의 화학적 또는 전기화학적으로 복잡한 작용이 일어나, 동일 액중에서도 피복력은 서로 다르게 일어나 판단이 어렵게 된다.

시험분석 · 금속표면기술 · 10권 11호 1959년 · Toshiichi NAKAMURA · Tetsuo TANAKA 외 .. 참조 63회

도금을하는 목적은 장식, 방식 및 금속 표면의 물리적 특성의 개선 등이 있지만 그 중에서도 소지 금속의 부식 방지가 매우 많다. 이 경우 도금 금속은 소지금속에 비해 전기화학적으로 귀(+)하게 되는 경우와, 비(-)하게 되는 경우가 있다. 철강에 아연도금을 한 경우, 아연은 철에 비해 상당히 비하게...

시험분석 · 금속표면기술 · 9권 10호 1958년 · 芦沢 武男 · 참조 68회

헬셀에 의한 도금액관리와 현장에서 불순물등의 영향을 조사하는 방법

시험분석 · 금속표면기술 · 8권 3호 1957년 · 藤野 武彦 · 참조 56회

상업적 조건에서 상대적으로 두꺼운 피막을 빠르게 도금할수 있는 크롬도금 액은 특히 중요하다. 규불화물은 크롬도금 액에서 효과적인 촉매로 알려져 왔으며, 이를 함유하는 용액은 황산을 함유하는 기존의 욕에 비해 큰 장점이 있다. 그러나 지금까지 규불산과 황산을 포함하는 크롬도금액의 실제 분...

시험분석 · 금속표면기술 · 5권 6호 1954년 · Soya YAMAZAKI · Masao KIMURA 참조 56회

전기화학적 측정방법의 이론, 전해방법, 응용에 관하여 설명

시험분석 · 표면기술 · 29권 12호 2008년 · Tsugito YAMASHITA · Hitoshi YAMAGUCHI 참조 54회

도금현장에서 사용되는 전기화학적 방법으로는 CVS 방법이 넓게 이용되고 있으나, 여기서는 그와 다른 새로운 전기화학적 방법을 이용한 분석방법을 소개

시험분석 · 표면기술 · 59권 12호 2008년 · 大久保 利一 · 참조 62회

구리 전기도금 시스템은 반도체 웨이퍼에 구리를 도금하는데 사용된다. 산성구리 도금욕의 주요 성분은 황산구리, 황산 및 염산이다. 구리 도금품질에 영향을 미치는 다양한 첨가제가 사용 된다. 도금액이 노화됨에 따라 도금공정의 결과로 특정 부산물이 형성 된다. 순환 전압전류법 제거 (CVS) 는 도...

시험분석 · Dionex Corporation · Application Note 139 · Dionex · 참조 73회

시약의 시험에 이용되는 주요 중화적정법을 소개하고, 그 정도를 유지하기위한 유의점에 관하여 설명

시험분석 · The Chemical Time · 2호 2006년 · Tatsuya INOUE · 참조 71회

구리-니켈-크롬도금계의 내식성의 평가방법을 확립할 목적으로, 구리 니켈 및 크로모금을 경강판의 단일 전극 및 이들의 도금을 조합한 복층도금전극게의 부식거동을 정전위분극법으로 해석

시험분석 · 재료 · 17권 1979년 · Naoji FURUKAWA · Tadao HAYASHI 참조 44회

무전해니켈도금액의 주성분이 니켈과 인의 간이 측정할수 있는 ICP 발광 분광 분석법을 소개

시험분석 · SII · ICP No.31 · SII · 참조 67회