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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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납과 납 합금 양극의 중량 손실이 감소된 크롬 전기 도금조
납 Pb 및 납 합금 양극의 무게 손실은 도금조에 비스무스 비소 또는 안티몬 이온을 포함 시킴으로써 크게 감소되었다.
크롬/합금
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미국특허 · 1987-4786378 · Kenneth R. Newby ·
참조 31회
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광택 첨가제로서 셀레늄을 함유하는 도금액에서 광택구리 전기도금을 제조하는 것에 관한 것이다. 그것은 확장된 광택 도금범위의 셀레늄 함유 전기도금욕과 도금욕에서 도금하는 방법을 주된 목적으로 제공한다.
구리/합금
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미국특허 · 1958-2825648 · R.I.DuPont ·
참조 31회
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내식성, 땜납 접합성, 와이어 접합성이 우수한 도금을 제공할수 있는 액안정성이 우수한 무전해팔라듐도금액을 제공 한다. 본 발명은 무전해 팔라듐 도금액으로서, 수용성 팔라듐 화합물, 착화제로서 암모니아, 아민 화합물, 아미노 카복실산 화합물 및 카복실산 중 하나 이상 및 안정제로서 비스무...
도금자료기타
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미국특허 · 2009-0081369 · Akihito ALBA ·
Hirofumi DAKAHASHI
참조 34회
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붕수소화 나트륨의 무전해니켈 도금에 있어서 안정제의 영향
착화제로서 에틸렌디아민, 환원제로서 붕소화 수소나트륨을 이용할때의 무전해니켈도금욕의 조성을 결정하여, 안정제의 선택 (탈륨 Tl+, 납 Pb2+, 비스무스 Bi2+, 티오요소) 와의 작용에 주목한 결과 설명하였다. 안정제로서 질산탈륨, 질산납, 질산비스무스 및 티오요소를 검토하고, 질산비스무스...
니켈/Ni
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전기화학 · 43권 12호 1975년 · Kohji NIHEI ·
Tetsuya OHSAKA
외 ..
참조 46회
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납, 주석, 비스무스, 인듐, 갈륨 및 게르마늄으로 이루어진 그룹으로 부터 선택된 하나 이상의 금속을 포함하는 수성 무전해 (무전기) 도금용액을 사용하여 금속 표면상에 도금할수 있다는 것이 발견되었다. (A) 제 1주석염, 납염, 비스무스염, 인듐염, 갈륨염 및 게르마늄염으로 이루어진 그룹으로 부...
비금속무전해
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한국특허 · 2003-0394315 · 맥긴로코 ·
참조 34회
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도금욕의 조성은 0.08 M 의 비스무스 트리클로라이드, 0.34 M 의 구연산나트륨, 0.08 M 의 EDTA, 0.20 M 의 니트릴 로트리 아세트산 및 0.04 M 의 염화주석이다. 도금욕은 온도 60 ℃ 및 pH 8.6~8.8 의 값을 갖는다.
도금자료기타
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미국특허 · 1994-5368896 · Murata manufacturing ·
참조 33회
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