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검색글 무전해도금 191건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

알루미늄 합금이나 스테인리스강과 같은 금속 모재의 표면에 텅스텐, 팔라듐, 니켈 그리고 인을 성분으로 하는 피막을 무전해 습식도금 방법으로 형성하는데 사용되는 도금액에 관한

도금자료기타 · 한국특허 · 2004-0000272 · 윤정일 · 참조 34회

폴리에스테르 고분자분체의 무전해도금방법에 관한 것이며, 그 목적은 국부적인 미도금 및 도금 밀착성 저하를 해결하여 분체표면에 도금 피막 두께의 조절이 가능하며, 도금피막 두께가 균일하고 연속성 있는 도전성 분체의 제조를 가능하게 하는 폴리에스테르 고분자분체의 무전해도금

비금속무전해 · 한국특허 · 2005-0497061 · 김순택 · 조점제 외 .. 참조 53회

ABS 프라스틱 부품에서 전자파 차폐막을 형성시키는 무전해 도금법에 관한 것

도금자료기타 · 한국특허 · 1996-007553 · 김순택 · 참조 45회

반도체 디바이스 등의 기판의 품질을 저하시키지 않고, 기판 상의 배선부에 환원력이 약한 환원제를 이용한 도금액에 의해 무전해도금을 실시하는 것이 가능한 무전해 도금 장치를 제공하는 것이다.

설비관련 · 한국특허 · 2007-0058310 · 하라겐이찌 · 이와시따 미쯔아끼 외 .. 참조 55회

무전해 니켈도금은 니켈염을 함유한 수용액에서 차아인산염, 수소화붕소화합물등의 환원제에 의하여, 화학적으로 니켈을 석출하는 방법으로 저기의 도움이 필요없어 물품의 형태에 관계없이 균일한 도금이 가능하며, 유리 세라믹 프라스틱등의 부도체에 족매를 부여한 직접 도금이 가능하고, 액의 선택...

도금자료기타 · na · na · na · 참조 34회

미립자 물질을 포함하는 금속 코팅으로 그 표면상를 무전해 금속화하는 공정으로서, 상기공정은 본체의 표면을 금속염, 무전해 환원제, 착화제를 포함하는 안정한 무전해 금속화 욕과 접촉시키는 것을 포함하며, 무전해도금 안정제, 금속화 욕에서 거의 용해되지 않는 본질적으로 불용성인 미립자 물질...

도금자료기타 · 미국특허 · US 6306466 B1 · Nathan Feldstein · Deborah Jane Lindsay 참조 48회

알칼리욕에서 도금된 무전해 니켈-인-아연 Ni-P-Zn 합금을 조사했다. 도금조에는 황산니켈, 염화아연 및 차아인산이 포함되어 있다. 온도, pH 및 아연염 농도와 같은 공정변수가 제시되고 논의 되었다. 도금의 미세구조는 XRD 와 SEM 에 의해 연구되었다 NiSO4 6H2O 20 g/l NaH2PO2 H2O 20 g/l NaC6H5O7...

합금/복합 · Acta Metallurgica SINICA · 18권 3호 2005년 · Y.S.Huang · F.Z.Cui 참조 47회

니켈표면에 무전해금 Au 도금을 적용하기 위한 대체 무전해금 Au 도금액으로 직쇄 알킬아민 인 테트라에틸렌 펜타민, 니켈 또는 니켈 합금의 환원제인 히드라진 1수화물, 금 Au 공급원인 시안화금칼륨이 무전해금 도금액에 혼합된다. 니켈 또는 니켈합금의 표면에 박막형 금도금 층을 직접 형성하는 경...

금/Au · 미국특허 · 2002-6398856 · Shinko Electric · 참조 64회

인듐 주석 산화물 ITO 전극에 은 Ag 무전해도금하는 방법은 ITO 전극이 형성된 기판을 준비하고, ITO 전극 위에 주석 Sn 을 도금하는 단계, ITO 전극을 활성화 용액에 담그고 인듐 ITO 전극에 은 Ag 을 도금하여 ITO 전극에 은 Ag 을 도금한다. ITO 전극을 마그네슘 이온과 은 이온을 포함하는 무전...

도금자료기타 · 미국특허 · 2002-12277 · 김재정 · 차승환 참조 54회

시안화 화합물이 없는 비시안화물 무전해금도금액을 제공하기 위한 것으로, 금 (GOLD) 착화제로서, X-(CH2)N -SH (여기서, N 은 2 또는 3 이고, X는 SO3H 또는 NH2 이며, pH 값은 7 이하) 으로 표현되는 화합물 또는 그 염 (SALT)

금/Au · 한국특허 · 2006-0051327 · 사나마 마사키 · 나카자와 마사요 외 .. 참조 38회