|
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
|
옥살산 N-페닐히드라진 N-페닐트하우스미카르바자이드와 N 페닐 옥사이릭 디히르라진에 의한 1 M 질산욕에 있어서 구리의 부식 억제
합성한 N-페닐옥살산 디히드라진과 옥살산 N- 페닐 히드라지드 N- 페닐 티오세미카바지드에 의한 1 M HNO3 에 구리 부식억제의 연구에 중점을 두었다.
엣칭/부식
·
Electrochimica Acta · 24권 2006년 · Lahcene Larabi ·
Omar Benali
외 ..
참조 128회
|
히드라진을 환원제로한 무전해니켈 도금의 광택성의 향상
EDTA 와 젖산을 이용한 히드라진 환원욕을 기본으로 하고, 사카린산소다와 포름알데하이드의 첨가 및 욕조성의 변화에 따라, 안정되며 석출속도가 높고, 금속광택이 있는 무전해 니켈도금욕의 개발 (CH3COO)2Ni 4H2O NH2NH2 H2O EDTA Lactic Acid H3BO3 0.10 mo/l 1.0 mol/l 0.050 mol/l 0.75 m...
니켈/Ni
·
표면기술 · 51권 1호 2000년 · Shinji YAE ·
Kiyoshi ITO
외 ..
참조 59회
|
|
내식성, 땜납 접합성, 와이어 접합성이 우수한 도금을 제공할수 있는 액안정성이 우수한 무전해팔라듐도금액을 제공 한다. 본 발명은 무전해 팔라듐 도금액으로서, 수용성 팔라듐 화합물, 착화제로서 암모니아, 아민 화합물, 아미노 카복실산 화합물 및 카복실산 중 하나 이상 및 안정제로서 비스무...
도금자료기타
·
미국특허 · 2009-0081369 · Akihito ALBA ·
Hirofumi DAKAHASHI
참조 34회
|
팔라듐 멤블란스 합성에 있어서 무전해도금 화학의 효과
히드라진 및 차아인산염 기반 팔라듐도금은 도금조 화학이 전착된 팔라듐막의 도금효율 및 피막품질에 미치는 영향을 입증하기 위해 선택되었다. 또한 차아인산염 기반 도금조에서 팔라듐의 전착역학도 보고된다. 간단한 도금 모델은 파종된 지지대에 팔라듐 전착을 정확하게 예측하였다.
응용도금
·
Membrane Science · 182호 2001년 · Y.S. Cheng ·
K.L. Yeung
참조 23회
|
|
니켈함유 소재에 금도금을 형성하는데 유용한 전해질 조성물이 구성하였다. 또한 니켈함유 소재에 금을 도금하는 방법이 설명하였다.
금/Au
·
미국특허 · 2002-6383269 B1 · Michael P. Toben ·
James L. Martin
외 ..
참조 29회
|
|
활성화되지 않은 텅스텐 표면에 니켈을 정직하게 도포하는 방법이 폐쇄되어 있으며, 텅스텐 표면은 수용성 니켈 염, 에틸렌 디아민, 히드라진 및 모노 에탄올 아민이 포함된 수성 무전해 니켈도금조에 충분한 시간 동안 침지하여 텅스텐 표면에 니켈 층을 도금한다.
니켈/Ni
·
미국특허 · 1987-4695489 · Kenneth P. Zarnock ·
Charles D. iacovangelo
참조 59회
|
|
기판에 백금의 무전해 자기촉매도금, 수용성 백금 도금욕, 무전해 자기촉매 도금조성물을 사용하여 다양한 기판에 백금을 균일하게 도금하는 공정에 관한것이다.
도금자료기타
·
미국특허 · 2002-6391477 B1 · Alexander S. Koslov ·
Thirumalai Palamnisamy
외 ..
참조 43회
|
황산구리(동) 수용액으로부터 하이드라진 hydrazine 환원에 의한 구리 Cu 미립자의 합성
분산성이 우수한 단분자 구리 Cu 미립자를 제조하기 위하여, 황산수용액으로 부터 하이드라진 Hydrazine 에 의한 Cu 미립자의 초기 생성거동을 면밀히 관찰하였고, 또한 Cu 미립자의 입경 및 분산상태에 미치는 착화제 및 분산제의 영향에 대하여 연구
기술자료기타
·
한국재료학회지 · 13권 8호 2003년 · 유연태 ·
최영윤
참조 51회
|
