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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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친환경 무전해구리 나노 석출의 표면 특성 및 전기화학적 특성에서 킬레이터 첨가제가 미치는 영향
친환경 무전해에 사용되는 킬레이터가 수산화물의 양에 따라 달라지는 것에 대한 연구하였다. 금속 이온으로서 구리 메탄설포네이트를 갖는 킬레이터로서 폴리하이드록사이드, 글리세롤 및 솔비톨을 사용하였다. DMAB (Dimethylamine borane) 는 N- 메틸티오우레아 및 시토신과 함께 환원제로 글...
구리/Cu
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Scientific Reports · 13권 2023년 · Suseela Jayalakshmi ·
Raja Venkatesan
외 ..
참조 45회
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알칸설폰산을 함유하는 전환피막 조성물로 향상된 내식성을 가진 크로메이트 화성 피막을 생성사용한다.
크로메이트
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유럽특허 · EP 4510409A1 · Deresh, Lev ·
참조 85회
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설폰산 기반 전해욕에서 주석 피복 전착 : 마찰거동
주석 도금에 사용되는 [메탄설폰산] 전해액을 연구하고, 생성된 전착물의 특성을 산업용 [페놀설폰산]욕 주석도금 특성과 비교하였다. 메탄설폰산 전해질로부터 매끄럽고 밀착력이 있으며 광택 주석 도금이 얻어졌는데, 이는 공업용 욕조에서 전착된 주석과는 형태와 질감이 달랐다. 도금의 바람직한 결...
석납/합금
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JMEPEG · 24권 6호 2015년 · L.N. Bengoa ·
W.R. Tuckart
외 ..
참조 22회
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메탄설폰산 주석도금욕에서 철 불순물의 제거 연구
주석 이온의 회수율에 대한 환원제로서의 아황산나트륨의 영향을 조사하였다. 접근 방식은 HZ016 유형 양이온 교환 수지를 사용하여 먼저 전기 도금된 주석 용액에서 Sn2+ 및 Fe2+를 흡착하는 하였다. 흡착 후 수지를 황산으로 제거하고 여기에 NaOH를 첨가하여 pH 값을 조절하여 침전물을 형성하고 주...
석납/합금
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Earth and Environmental Science · 218권 2018년 · Hou-li LIU ·
jian-jun CHEN
외 ..
참조 101회
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산성 메탄설폰산 주석욕 전해욕에 있어서 도금 중 첨가제 효과
산성 메탄설폰산 주석욕의 전기화학 및 형태학적 석출물 변화에 대한 유기 첨가제의 효과를 연구하였다. 첨가제가 없는 경우 주석 전착은 수소 가스 발생과 함께 확산 제어되며 전착은 거칠다. 폴리에틸렌 글리콜의 첨가는 수소 가스 발생을 억제하지만 제1주석의 환원 메커니즘과 석출 구조에는 거의 ...
석납/합금
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Electrochimica Acta · 49권 2004년 · Nicholas M. Martyak ·
Robert Seefeldt
참조 35회
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회전 디스크 전극을 이용한 크롬 Cr(VI) 환원에 대한 메탄 디설폰산 나트륨 염의 효과 연구
크롬(VI) 전기도금은 높은 경도와 우수한 화학적 안정성으로 인해 금속 재료의 표면 엔지니어링 산업에서 중요한 역할을 한다. 그러나 크롬 Cr(VI)의 환원은 낮은 전류 효율을 나타내는 일련의 복잡한 반응이다. 이러한 낮은 전류 효율은 표면 엔지니어링 산업에서 CR(VI) 전기도금을 채택하는 데 있어 ...
크롬/합금
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Mater. Res. Express · 8권 3021년 · Xia Lou ·
Ke Zhou
외 ..
참조 62회
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메탄설폰산 전해질에서 PEG에 의한 구리 전착의 억제
메탄설폰산 (MSA) 구리 Cu 도금욕에서 폴리에틸렌글리콜 (PEG)의 억제 거동을 조사하였다. H2SO4 전해질에서 PEG에 의한 구리 Cu 전착 억제는 Cl-의 존재에서만 발생하는 반면 MSA 전해질에서는 Cl-은 필요하지 않다.
구리/합금
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Electrochemical Society · 166권 13호 2019년 · Ryan T. Rooney ·
Himendra Jha
외 ..
참조 37회
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전기도금 관련 금속 처리 산업에 있어서 메탄설폰산
지난 10년 동안 메탄설폰산은 전자 장치의 주석 및 주석-납 땜납의 전착을 위한 전해질로 붕불산을 크게 대체 하였다. Bett's 공정은 현재 붕불산욕 기반에서 사용되고 있으며 메탄설폰산 (MSA) 기반 공정에 대한 환경적으로 우수한 대안으로 활발히 연구되고 있다. 다수의 상업용 스트립 강판 도금...
전기도금통합
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Trans inst Met Fin, · 11귄 5호 2003년 · R. Balaji ·
Malathy Pushpavanam
참조 2회
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크롬 Cr(III) 염의 메탄설폰산욕에서 크롬 전착의 동역학 및 메커니즘
Cr(III) 이온의 메탄설폰산 및 황산염 용액에서 크롬 전착 과정의 역학 및 메커니즘을 조사하였다. Cr(III) 전착물 이온의 전기 환원은 상대적으로 안정적인 중간체인 Cr(II) 화합물의 형성과 함께 단계적으로 진행되는 것으로 나타났다. 크롬은 이러한 전기화학 시스템에서 Cr(II) 수산화 석출물의 방...
크롬/합금
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Applied Electrochemistry · 50권 5호 2014년 · V. S. Protsenko ·
A. A. Kityk
외 ..
참조 13회
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메조스케일 TSV에 있어서 상향식 구리 충전을 위한 단일 첨가제 전해질을 사용한 정전류 도금
단일 억제 첨가제가 포함된 메탄설폰산 (MSA) 전해질은 TSV (실리콘 비아)를 통해 중간 규모의 구리를 정전위 상향식 충전에 사용했다. 반대로 정전류 전착은 일반적으로 정전위 도금에 필요한 기준 전극이 장착되어 있지 않기 때문에 생산 수준의 전체 웨이퍼 도금 도구에 바람직하다. 전위차 전착은 ...
구리/합금
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Electrochemical Society · 166권 1호 2019년 · L. A. Menk ·
E. Baca
외 ..
참조 14회
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