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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...

수용액에 Co, Ni 및 Mn 이온에 대한 착화제를 첨가하여 포화자화가 감소된 수직 자기 기록 매체를 안정적으로 제공할 수있는 무전해 도금욕을 얻는다.

합금/복합 · 일본특허 · 1986-12876 · na · 참조 28회

적어도 하나의 1차 콜로이드 안정화제의 혼합물을 포함하는 신규 콜로이드 촉매 무전해 도금 조성물의 형성을 위한 공정 및 방법으로 무전해(화학적) 도금전에 비전도체의 촉매처리에 사용된 활성 상태.

니켈/Ni · 미국특허 · 1981-4293591 · Nathan Feldstein · 참조 60회

IC 장치 속도를 높이려면 RC 지연을 줄이는 것이 중요하다. Cu 는 인터커넥트의 저항률을 낮추기 위해 채택되었으며 유전상수를 낮추기 위해 몇 가지 물질을 연구하였다. 은 Ag 는 실제제품에 아직 채택되지 않았지만 저 저항 상호 연결 금속으로서 구리 Cu 다음의 후보중 하나다. 금속 위의 캡층과 같...

도금자료기타 · Materials Transactions · 43권 7호 2002년 · Manabu TSUJIMURA · Hiroaki INOUE 외 .. 참조 39회

본 발명은 도금욕의 전하이동과 전위에서 이동을 생성하는 기준을 기초하여 선택되는 산성구리도금욕용 첨가제의 사용을 설명하였다. 또는 대안적으로, 높은 종횡비(아스펙) 회로기판의 표면과 그러한 기판의 리세스 사이에 차동 과전압을 생성하는 것으로 첨가제는 단일 또는 다 성분 첨가제일수 ...

구리/합금 · 미국특허 · 1991-5051154 · Roger F. Bernards · Gordon Fisher 외 .. 참조 48회

니켈 또는 니켈합금 도금의 전착을 위한 수용성 산성도금욕에는 니켈이온 및 일반식을 갖는 첨가제가 포함된다. 2C = CHCH2 NR1 R2 또는 2C = CHCH2 N + R1 R2 R3] n Xn- 여기서 R1, R2 및 R3 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 알릴, 프로 핀, 프로판 디올 및 이들의 조합으로 이루어진 작용기 중에서 선택되...

니켈/합금 · 미국특허 · 2004-0154928 A1 · Leonard L.Diaddario · 참조 46회

니켈도금 또는 니켈합금도금을 전착을 위한 산성 도금조입니다. 욕은 니켈이온 및 일반식을 갖는 첨가제를 포함한다 : H2C = CHCH2NT2NR1R2 또는 [H2C = CHCH2N + R1R2R3] mXm- 여기서 R1, R2는 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 알릴, 프로핀, 프로판디올 및 이들의 조합; X n-는 n-가 무기 또는 유...

니켈/합금 · 국제특허 · 2004-072320 A2 · Leonard L. Diaddario · 참조 51회

아연 도금조에는 아연이온과 광택제가 포함되어 있다. 광택제는 4차 암모늄기를 포함하는 폴리아민 또는 폴리아민의 혼합물이다.

아연/합금 · 국제특허 · 2005-093132 A1 · na · 참조 41회

도금 대체 처리법으로, 화학약품을 일정 사용하지 않는 용사에 의한 피막형성법의 응용개발이 활발히 진행되고 있으며, 내마모성 피막이 응용된 사용환경은 부식성이 높은장소로, 내마모성을 가한 내식성 및 기재에대한 방식성을 고려하여, 내마모성 시험과 염수분무시험을 실시한 실험 피막 경도(H...

도금자료기타 · 일본용사공업회 · 平成15年7月1日 · na · 참조 54회

철 파이프 내부면의 도금 상태와 내식성 사진 비교

종합자료 · (주) 썬빅스 · na · na · 참조 14회

고내식성 피막의 비교 다크로아연합금도금의 내식 비교시험 결과표

화성피막 · Web · n/a · na · 참조 36회