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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...
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산성 황산구리 도금욕에서 광택구리 도금에 대한 첨가제의 역할과 그 역사
첨가제 성분은 폴리옥시 에틸렌-폴리옥시 프로필렌 글리콜 (P), 2 -메르캅토 벤조티아졸 -S-프로판설폰산 (S) 및 사프론성 염료 유도체 (Janus Green B, J) 였다. (P) 는 구리표면에 흡착되어 염소 Cl- 의 존재 하에서 반응전류를 현저하게 억제하는 밀착피막을 제공하는 것으로 밝혀졌으며, 3가지 성분...
구리/합금
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Electrochemical · na · M.Yokoi ·
T. Hayashi
참조 81회
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연강 소재에 구리-주석 CuSn 합금 및 구리-주석-아연-니켈 Cu-Sn-Zn-Ni 합금의 조성적으로 변조된 다층 전기도금
333 K 에서 작동하는 상업용 알칼리 시안화물 전기도금조에서 구리-아연-주석 Cu-Zn-Sn 합금의 전착은 전압전류법과 전자현미경을 사용하여 조사되었다. 구리 47~51 %, 아연 8~12 % 및 주석 38~43 % 범위의 조성을 가진 반사율이 높은 합금 전착물이 다양한 조건에서 생산될수 있음을 보여주었다. 또한 ...
합금/복합
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Applied Electrochemistry · 31권 2001년 · L. PICINCU ·
D. PLETCHER
외 ..
참조 67회
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철전극에서 주석 전기도금에 대한 a-나프톨설폰산 에톡시레이트의 효과
주석도금의 초기단계에 대한 에톡시레이트 나프톨설폰산 (ENSA) 의 영향을 페놀설폰산을 지지 전해질로 포함하는 산성주석 황산액에서, 전기화학 석영 크리스탈 마이크로 밸런스 (EQCM), 스캐닝 프로브 현미경 (SPM) 및 전기 화학 임피던스 분광법기술, 전위 역학적 분극을 사용하여 철 전극에서 연...
석납/합금
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Electrochemical Society · 151권 5호 2004년 · 이주열 ·
김재우
외 ..
참조 43회
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알리자린 엘로우 GG 염료를 사용한 황산욕에 있어서 연강부식의 억제와 시너지 요드 첨가
유기염료의 부식억제 특성에 대한 우리의 관심을 이어 가면서 현재 논문은 알리자린 옐로우 (Alizarin yellow) GG (AYGG), C13H8N3 NaO6 (아조염료) 니트로닐아조 [5-(3 -nitrophenylazo)] 의 억제작용에 대하여 보고하였다. 하이드록시 벤조산소다 (2 -hydroxy benzoic acid sodium salt) 는 중량감소 ...
엣칭/부식
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Electrochem. Sci. · 3권 2008년 · E. E. Ebenso ·
H. Alemi
외 ..
참조 72회
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과망간산과 인산 음이온을 사용에 의한 염화나트륨 욕에 있어서 구리-아연 CuZn 합금의 부식과 억제
염화나트륨 NaCl 용액에서 구리-아연 Cu-Zn 합금의 부식에 대한 과망간산염 및 인산염 음이온의 효과는 개방회로 전위, 전위역학 및 전기화학 임피던스 분광법(EIS) 기술을 사용하여 연구 하였다. 과망간산염 및 인산염 음이온의 농도를 증가 시키면 부식률이 감소하여 부식억제 효과를 나타낸다. Cu-Zn...
엣칭/부식
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Electrochem. Sci. · 2권 2007년 · S. A. M. Refaey ·
A. M. Abd El Malak
외 ..
참조 55회
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피리독살과 염화피리독솔에 의한 순철의 산 부식의 억제
염산 (HCl) 용액에서 연강의 부식에 대한 피리 독살 염산 (PXA) 및 피리독솔 염산염 (PXO)의 작용은 중량 손실 및 가스 측정 방법을 사용하여 연구하였다. 억제 효율은 억제제의 농도에 따라 증가하고 온도가 증가하면 감소한다. 효율성은 PXO > PXA 순서로 증가한다. 결과의 운동학적 처리는 1차역학을...
엣칭/부식
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Electrochem. Sci. · 2호 2007년 · A.O. James ·
N.C. Oforka
외 ..
참조 49회
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염산욕에 있어서 황동 부식 억제제로 페닐하이드라존 유도체
2 M 염산 HCl 용액에서 70 Cu - 30 Zn 황동의 부식에 대한 일부 페닐히드라존 유도체의 억제효과를 중량감소 및 정전류 분극기술을 사용하여 조사하였다. 억제효율의 백분율은 억제제의 농도가 증가하고 온도가 감소함에 따라 증가하는 것으로 나타났다. 페닐히드라존 유도체에 요드칼륨 KI 를 첨가하면...
엣칭/부식
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Electrochem. Sci. · 4권 2009년 · M. Abdallah ·
M. Al- Agez
외 ..
참조 51회
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염산욕에 있어서 알루미늄 용해의 부식억제제로서 음이온 계면활성제
1M 염산 HCl에서 Al의 부식에서 일부 계면활성제의 역할은 무게감소 및 정전류 분극기술을 사용하여 연구하였다. 억제가 금속표면에 있는 억제제 분자의 흡착을 통해 발생하는 것으로 나타났다. 억제 효율은 억제제 농도가 증가함에 따라 증가하고 온도가 증가함에 따라 감소하는 것으로 나타 났는데 이...
엣칭/부식
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Electrochem. Sci. · 3 (2008) 177 - 190 · G.Y. Elewady ·
I.A. El-Said
외 ..
참조 60회
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피리미딘 유도체의 2 M 염산 수용액중 탄소강의 부식방지
2,6-디메틸 피리딘-2-아민과 그 유도체중 두가지는 전기화학적 임피던스 분광법 (EIS) 및 체중감량 기술을 사용하여 2 M HCl 용액에서 탄소강 (C- 강) 의 부식억제제를 조사하였다. 억제제의 효율은 억제제 농도가 증가함에 따라 증가한다. 얻은 결과는 사용된 피리미딘 유도체가 2 M HCl 에서 C- 강에 ...
엣칭/부식
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Electrochem Sci. · 3호 2008년 · G.Y. Elewady ·
참조 41회
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실온에서 상이한 농도의 메탄을 함유하는 염산 HCl 및 황산 H2SO4 중 연강에서 메톨 (N-메틸-p-아미노페놀설페이트) 의 억제거동을 화학 및 전기화학적 방법으로 조사 하였다. 메탄 농도가 증가함에 따라 부식 속도가 감소하고 억제효율 및 표면 피복률이 증가하는 것으로 관찰되었다.
엣칭/부식
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Electrochem. Sci. · 4권 2009년 · B.M. Praveen ·
T.V. Venkatesha
참조 38회
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