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무전해 코발트-인 석출
Electorless cobalt-phosphorus deposition

등록 : 2017.10.20 ⋅ 17회 인용

출처 : Bull of electrochem, 6권 4호 1990년, 영어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

Bullentin of electrochemistry

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.09
1~4 μm/hr 의 석출속도와 3~7 % 의 인 석출물로 황산/시트레이트를 기반으로하는 도금액을 개발하였다. 석출속도에 대한 pH, 온도, 욕조성, 양이온, 음이온 및 기본첨가의 영향을 연구 하였으며, 소재와 석출피막 사이의 밀착력이 우수한 것으로 밝혀졌다.
  • 이 책자는 Atotech U.S.A.의 H.Chessin, E.C. Knill 과 E.J.Seyb, Jr.가 경질크롬도금에서의 발생하는 불량에 대하여 그원인및 대책을 오랜 도금경험과 연구를 바탕으로...
  • 1. 전기도금가공방법에 관하여 (개론) 2. 걸이 치구의 기초지식 3. 걸이 치구에의한 가공의 실제 4. 배럴의 기초 5. 배럴에 의한 도금가공의 실제 6. 특수한 치구에의한 도...
  • 1. 세척 개론 2. 얼룩의 종류와 분류 3. 세척기구 세척 방법과 작용 4. 전처리 공정 예와 욕관리 포인트 5. 질의 응답
  • 금속 시안착체를 다량 함유한 도금폐액에 관하여 고온고압의 열가수 분해법으로 도금폐액중의 시안을 분해 처리하여, 그 분해 부생성물의 기산을 활성 오니법으로 처리하는 ...
  • 발명의 바람직한 실시 양태에서, 크롬(iii) 이온, 코발트(ii) 이온 및 질산을 함유하는 전환피막 조성물이 제공된다. 피막조성물은 크롬(vi) 이온이 실질적으로없고 산화제...