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펄스전해법에 의한 비정질 팔라듐 피막의 전석
Electrodeposition of amorphous Palladium films by pulse current electrolysis

등록 : 2008.08.12 ⋅ 47회 인용

출처 : 금속표면기술, 38권 2호 1987년, 일어 3 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.02.16
NaAsO2를 함유한 에틸렌디아민팔라듐(ii) 착화용액으로 부터 펄스전해법으로 전석한후, 비정질 팔라듐 피막을 만들어, 전해조건의 영향과 피막의 비정질화의 원인을 고찰
  • 장식용 3가 크롬 전기도금은 유럽에서 수년간 성공적으로 사용된후 1975년 북미에서 사용 가능하게 되었다. 이 공정은 6가크롬을 사용하지 않고 장식용크롬을 도금하는 확립...
  • 인체에 무해한 납땜도금을 염두해두고, 납 Pb 및 시아노프리의 전석법으로 주석-은 Sn-Ag 합금의 제작을 검토하고, Sn-Ag 합금도금욕피로인산욕-요드화물을 제안...
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  • 서로 다른 도금방법의 상대적인 장점과 자기촉매 금도금을 위한 새로운 유형의 전해질에 대해 설명 하였다. 이도금액의 화학 시스템은 긴 수명 및 높은 금속회전율과 결합된...
  • I990의 청정공기법 개정안이 오존을 목표로하기 때문에 오존의 전구체인 NO 배출량도 면밀히 조사되고 있다. NO는 주로 산화질소(NO)와 이산화질소(NOx)로 구성된다. NO와 N...