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금속 후막 구조체 제작기술에 관한 연구

등록 : 2009.09.17 ⋅ 46회 인용

출처 : 한국전자통신연구소, 1996.12.1, 한글 47 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

박영준1) 김용권2) 이종현3) 백창욱4) 임형택5) 김성혁6)

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분류 :
자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.03.23
대표적인 위치 인식 소자인 가속도계와 각속도계의 경우 현재 주로 실리콘 마이크로머시닝에 의해 제작되고 있으나 실리콘 마이크로머시닝으로는 기본적으로 높은 ,구조물 이상 제작이 어렵기 때문에 입력전압이 높고 출력 감도가 떨어진다는 단점이 (10 ) ㎛있다. 본 연구는 이러한 위치 인식 소자의 성능 향상을 위해 높은...
  • 도금과 관련하여 - 6가크롬은 규제 대상이나 금속크롬 (장식 및 경질크롬 도금) 은 안정성이 높으므로 규제 대상 외 - 아연도금 등의 크로메이트 처리나 다크로 처리 피막은...
  • 수지도금에 있어서 밀착강도의 발현이 접착현상에 주목하여, 분자접착 기술의 응용에 실험
  • 폴리비닐알코올 ^ Polyvinyl Alcohol C2H4O = 44.05 g/mol 백색~유백색 분말 더운물에 용해 PVA 라고 부르며 폴리초산비닐을 메틸알코올에 가성소다를 가하여 30~50 ℃ 에 가...
  • 니켈-인의 매우 단단하고 미세한 입자구조의 금속 합금을 적용하는 것이었다. 이 합금은 순수한 니켈보다 내구성이 훨씬 더뛰어나며 일반적으로 도금의 비정질특성으로 인해...
  • 아연이온, 주기율표의 첫 번째 전이금속의 합금 금속 이온, 및 우레일렌 4 차암모늄 중합체, 이미노우레일렌 4차 암모늄 중합체 또는 오우 레일 4차 암모늄 중합체를 포함하...