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염화제이철 용액에 의한 금속 에칭의 분극거동
Plarization behavior of metal etching on ferric chloride etchants

등록 : 2008.09.03 ⋅ 73회 인용

출처 : 표면기술, 43권 2호 1992년, 일본어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.07.29
염화제이철 용액에 의한 금속에칭의 기구해명을 직접분극거동으로 검토하여 연구
  • 인듐-주석산화물 (ITO) 기판에 무전해 도금된 구리 Cu 필름은 대규모 액정 디스플레이 (LCD) 및 플라즈마 디스플레이 패널 (PDP) 에 데이터 버스 라인을 적용하기 위해 연구...
  • 무전해 주석 Sn 의 합금 도금에 의한 변위 반응을 조사하였다. 새로운욕은 피로 인산 칼륨, 요오드화 칼륨, 금속염 및 티오요소가 포함되었다. 사용 무전해 주석 도금 및 무...
  • 몇년 전, 경질크롬은 도금액을 깨끗하고 불순물이 없는 상태로 유지하는 것의 가치를 알고있었다. 간단한 접근 방식은 불순물 수준을 줄이기 위해 필요할 때마다 도금욕...
  • 광택 첨가제로서 셀레늄을 함유하는 도금액에서 광택구리 전기도금을 제조하는 것에 관한 것이다. 그것은 확장된 광택 도금범위의 셀레늄 함유 전기도금욕과 도금욕에서 도...
  • 전기주조는 주조틀을 플라스틱 및 금속의 복잡한 표면을 성형하는 비용을 낮췄다는 점에서보다 일반적인 공정에 새로운 기능을 제공한다.