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무전해 니켈도금욕 및 이를 이용한 도금방법
na

등록 2008.08.17 ⋅ 40회 인용

출처 일본특허, 2005-126734, 일어 10 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.27
납 Pb, 비스무스 Bi, 탈륨 Tl, 카드뮴 Cd 등의 중금속 이온이 포함되어 있지않아 인체와 환경에 친화적인 도금욕을 제공하고, 무전해 니켈 도금욕으로 실용적으로 사용할수 있다.
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  • 인쇄회로 기판 등과 같이 정밀도금이 요구되는 제품을 도금할 때 사용되는 티타늄-동 수중 부스바에 관한 것으로서, 동판이 티타늄 커버에 의해 커버되며, 티타늄 커버의 양...
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