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무전해 Ni-P/TiO2 복합도금막의 구조와 광전류밀도
Structure and photocurrent density of electroless plated Nickel/TiO2 composit films

등록 : 2008.08.18 ⋅ 59회 인용

출처 : 표면기술, 55권 5호 2004년, 일어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.02.21
여러조건에서 만든 무전해 Ni-P/TiO2 복합도금막의 단면구조를 TEM 으로 관찰하여, 도금막중에 다량의 TiO2 미립자를 공석하는 조건을 검토하여 복합도금막의 광전기화학특성, 특히 광전류밀도의 향상을 실험

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