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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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트리에탄올아민을 착화제로 사용한 무전해 니켈도금욕의 석출속도에 관한 연구
Depositing rate of electroless nickel plating bath contained triethanolamine as a complexing agent

등록 2008.08.18 ⋅ 47회 인용

출처 금속표면처리, 18권 4호 1985년, 한글 11 쪽

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트리에탄올아민을 錯化劑로 사용한 無電解니켈鍍金浴의 析出速度에 관한 硏究

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.07.30
트리에탄올아민을 착하제로 사용하고 금속염으로 황산니켈을 환원제로는 염가이기 때문에 많이 쓰이는 차아인산소다를, 완충제로는 니켈 전기도금에서 도금의 질을 향상시켜주는 붕산을 사용하여, 석출속도를 중량법과 전기화학적 측정법인 분극측정법에 의해 착화제와 완충제를 중점적으로 비교 고찰하고 석출속도의 면에서...