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트리에탄올아민을 착화제로 사용한 무전해 니켈도금욕의 석출속도에 관한 연구
Depositing rate of electroless nickel plating bath contained triethanolamine as a complexing agent
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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.07.30
트리에탄올아민을 착하제로 사용하고 금속염으로 황산니켈을 환원제로는 염가이기 때문에 많이 쓰이는 차아인산소다를, 완충제로는 니켈 전기도금에서 도금의 질을 향상시켜주는 붕산을 사용하여, 석출속도를 중량법과 전기화학적 측정법인 분극측정법에 의해 착화제와 완충제를 중점적으로 비교 고찰하고 석출속도의 면에서...
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ILLUNI AMC는 내식성이 뛰어난 마이크로포러스크롬 도금을 형성시키기 위한 프로세스입니다. 1) 비전도성 미립자가 균일하게 공석됩니다. 2) 저전류 부분에도 충분한 기...
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알칼리계 세정제를 대표하는 수계 세정제류는, 환경 조업안정이 우수하여 폭넓게 소대 오염물질에 대하여 효과적으로 프론과 에탄을 대체하는 세척제로 주목받고 있다. 수계...
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직접 구리도금의 기술발전과 그 이유를 검토하였다. 이 논문은 또한 화학적 성질에 따라 귀금속 활성화제, 탄소 콜로이드 용액 및 전도성 고분자와 같은 기존공정의 분류를 ...
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The metal deposits on and within the cathode. Any non-adherent solids which tend to accumulate during the electrowinning process are swept to the cell bottom and...
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3-페닐아크릴 알데하이드 및 4-페니부3-텐-2-온의 글로벌 및 로컬 활동, 주석표면에서의 흡착거동, 주석의 전착 메커니즘은 양자화학계산, 분자역학시뮬레이션 및 전기화학...