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반도체 패키지 기판용 무전해 Ni/Pd/Au 도금기술
Electroless Ni/Pd/Au plating for semiconductor package subdtrate
자료 :
- 분류 : 반도체패키지 ⋅
자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.03
CSP 와 BGA 등의 패키지 기판용 무전해금 Au 도금기술의 연구로, 열처리후의 와이어본딩성과 납땜볼 접속신뢰성의 검토
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황동 전기도금은 가장 중요한 합금 전착 공정중 하나이다. 황동층은 일반적으로 전해질을 포함하는 시안화물을 사용하여 생산된다. 시안화물은 강한 구리 착화제로 구리환원...
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전석법에 의한 크롬몰리브덴합금도금(Cr-Mo)피막의 제작조건을 검토하고, 전착물의 구조와 내식성의 관계를 밝힐 목적으로 연구
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알칼리 탈지용액으로 널리 사용되고 있는 가성소다 용액의 농도별 및 용액 분사용 노즐의 막힘정조별 탈지성 영향을 평가하고 탈지정도별 용융 아연도금 밀착성 영향을 관찰
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전해법을 도입하여 실제 실용화 규모인 230 ㎝× 60 크기의 대형 소재에 선택 흡수 박막의 전착을 실험하였다. 도금액의 조성은 크롬산 280 g/ℓ, 프로피온산 propionic acid ...
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알루미늄 박 표면에 무전해도금에 의해 아연을 도금하고, 알루미늄 박의 부식 및 팽창 과정과 메커니즘을 조사 하였다. 그 결과, 화학적 아연도금후 부식과정에서 알루...