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CMOS-기반 센서용 알루미늄 칩패턴의 무전해금 Au 도금
Electroless Gold Plating on Aluminum Patterned Chips for CMOS-Based Sensor Applications

등록 2014.03.03 ⋅ 30회 인용

출처 Electrochemical Society, 157권 1호 2010년, 영어 4 쪽

분류 연구

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저자

고정우1) 구효철2) 김동완3) 서성민4) 강태준⁵) 권영주⁶) 윤정민⁷) 전준호⁸) 김용협⁹) 김재정10) 박정준11)

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.11
팔라듐을 사용하여 알루미늄 및 그 합금을 활성화하는 방법과 상보적인 금속산화물 반도체 CMOS 기반 센서 애플리케이션을 위한 후속 무전해금도금 ELP를 제시 하였다. 이 연구에서는 기존 CMOS 회로와 쉽게 통합 할수 있도록 CMOS 프로세스호환 알루미늄 Al 패턴칩을 소재로 사용했다. 금속전극과 단일벽 탄소나 튜브 S...
  • 프라스틱의 표면을 염화팔라듐을 함유한 디메틸아세트아미드 또는 디메틸 포름알데하이드 처리한 무전해도금 방법
  • 본 발명은 도금적용을위한 금속 표면의 제조에 관한 것이다. 특히 밀착 전착물의 적용을 위해 전동 시리즈에서 철 위의 금속을 준비하는 것과 관련이 있다.
  • 착화제 · Complexing agent 금속이온과 배위 공유를 하는 모든 [리간드]를 가진 물질을 말한다. 참고 [킬레이트] [유기인착화제] [무전해도금] 착화화학 입문, 실무표면기술...
  • 버프연마의 기초적사항으로 연마용공구의 종류, 사용방법 및 장치등에 관하여 해설
  • 철 및 철코발트합금도금은 무첨가 산성염욕에서 전기성형 되었다. 피막응력과 자기특성은 전착전류밀도와 작동온도에 의해 크게영향을 받았다. 일반적으로 낮은 피막응...