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무전해 니켈석출에 있어서 3-S-이소티우로니움 프로필 설포네이트의 효과
Effect of 3-S isothiuronium propyl sulfonate on electroless nickel deposition

등록 : 2014.07.25 ⋅ 22회 인용

출처 : Electrochemistry, 46권 4호, 영어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

Russian Journal of Electrochemistry

자료 :

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.22
산성 무전해니켈 (EN) 도금에서 욕의 안정성, 도금속도, 반응활성화 에너지 및 니켈-인 Ni-P 피막 조성에 대한 유기첨가제, 3-S- 이소티우로늄 프로필설포네이트 (UPS) 의 효과를 조사했다. 이 연구는 X-선광전자 분광법 (XPS) 분석과 함께 편광곡선과 X-선형광 분광계 (XRF) 를 측정하여 수행되었다. 결과는 UPS 가...
  • WC 분말의 입자 크기를 변화시키면서 Ni과 같이 도금되는 Electrodeposition 특성 변화를 알아보고, Co가 코팅된 WC-Co 분말을 사용하여 석출량의 변화, 표면 관찰 및 미세...
  • 3가크롬 주체의 아연도금 부동태피막을 설명했다. 실험에는 SPCC 강판을 사용하여 드라이버 및 두께 8 μm의 아연도금을 실시했다. 황산크롬칼륨을 3가크롬 원으로 각종 시약...
  • 유니버살셀 · Universal Cell [헐셀] (Hull Cell) 은 도금욕의 최적화, pH, 전류 밀도, 온도 등과 같은 매개변수 측정하고. [하링셀] (Haring Cell) 은 [균일전착성]을 형성...
  • 도금욕용 주석 광택제제 혼합물은 염소화 아세토 페논, 유화제, 아크릴산 또는 메타크릴산을 포함한다. 또한 방향족 알데하이드를 사용할수 있다. 주석 광택제는 평방피트당...
  • 유리판 (Au-유리) 에 금 Au 나노입자를 도금하는 방법을 설명하였다. 무전해금속 도금기술은 Au 나노입자 도금으로 확장되었다. 이 기술은 유리판에서 일어나는 세단계로 구...