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화학구리 도금의 국부 아노드반응 및 국부 캐소드 반응에 있어서 기본조건의 영향
Effects of the main conditions of chemical copper plating on its Local anode reaction and cathod reaction - electrochemical studies on chemical

등록 2009.12.31 ⋅ 44회 인용

출처 금속표면기술, 17권 1호 1966년, 일어 6 쪽

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化学銅メッキの電気化学的研究 (第2報) - 化学銅メッキの局部アノード反応および局部カソード反応に及ぼす基本条件の影響

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.21
무전해구리도금의 주요조건이 국소 양극 및 음극 반응에 미치는 영향을 전위 운동 분극법을 사용하여 조사했으며 주요 조건은 용액의 pH, 용액의 성분 및 온도, 파라 포름알데하이드는 용액에서 포름 알데하이드의 공급원으로 사용되었다
  • 도금된 구리의 품질을 더잘 보장하기 위해 구리전기도금조에 사용되는 화학물질의 구성과 노화를 모니터링하는 방법이 필요 하다. 웨이퍼 팹의 구리 인터커넥트 도금조...
  • 광택 황동을 소재금속에 전기도금하는 신규방법은 함유하는 알칼리성 시안화물 수용액을 통해 애노드로 부터 소재금속 캐소드로 전류를 통과시키는 것을 포함한다. 구리이온...
  • 도금액을 회수 재이용함으로써 배수 처리를 합리화하는 방향으로 향하고 있다. 이에 따라 도금욕 중에 불순물이 축적되기 쉬운 상황이 되었다. 그래서 도금욕 중의 불순물의...
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