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반도체 가공처리액의 조성분석
na

등록 : 2009.07.04 ⋅ 31회 인용

출처 : 有機分析化学研究部, NA, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

半導体加工処理液の組成分析

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자료요약
카테고리 : 기술자료기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.10.18
CMP 슬러리의 성분분석에 대해 소개하고, 무기물이 많은 유기물 분석으로 더 난이도가 높은 구리 도금액의 조성분석에 주로 전처리법을 중심으로 소개한다.
  • 7A04 알루미늄 합금의 경질양극산화의 공정, 수식 및 작동 단계의 연구로, 기능, 조립, 내식성, 내마모성 및 광전 표적의 외관의 요구사항을 충족하기 위해, 산화탄소 ...
  • 경질크롬이 사용되는 많은 응용분야에서 니켈-텅스텐 합금이 대안으로 보인다. 니켈-텅스텐 합금은 상이한 유형의 전해질로부터 도금될 수 있다. 말릭산, 글루콘산, 젖...
  • 자동촉매 고속 크롬도금 ^ Self Regulating High Speed Chromium Plating Bath SRHS욕 |1| 크롬 도금욕중에 용해성이 극히 낮은 황산스트론튬 의 황산근 SO4-- 의 용해도를 ...
  • 2,3-디하이드록시 피리딘 및 2,3-디하이드록시 퀴노키사린에 관하여, 프런트 핵자기 공면장치, 적외선 흡수장치, 전반사 적외선 흡수장치 및 광전자 스펙터클 등에 의하여, ...
  • 다공성 양극산화막에 대해서도 Keller, Hundter, Robinson 등이 실시한 선구적 연구에 의해 육각 셀 모델이 제창되었으며 지금도 다공성 양극산화막 기본 구조로 인식된다. ...