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반도체 가공처리액의 조성분석
na
등록
:
2009.07.04
⋅ 27회 인용
출처
:
有機分析化学研究部
, NA, 일어 4 쪽
분류
:
해설
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
武藤智子
1)
大槻亜紀子
2)
기타
:
半導体加工処理液の組成分析
자료
:
분류 :
CPM
⋅
구리도금
⋅
도금액분석
⋅
목록
알루미늄 표면처리제
도금첨가제 원료
Innotive 종합카타록
자료요약
카테고리 :
기술자료기타
| 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.10.18
CMP 슬러리의 성분분석에 대해 소개하고, 무기물이 많은 유기물 분석으로 더 난이도가 높은 구리 도금액의 조성분석에 주로 전처리법을 중심으로 소개한다.
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