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ITO 상의 무전해니켈 도금
Electroless Nickel plating tin-Doped Indium oxide films

등록 2010.05.31 ⋅ 52회 인용

출처 회로실장학회지, 13권 2호 1998년, 일어 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 비금속무전해 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.18
레지스트에 의한 패턴형성된 ITO 상에 도금을 하여, 그후 레지스트를 박리한 리프트오프법으로 애디티브 패턴을 형성하였다.
  • PPNI (Hexyl benzyl amine) CAS No 25468-44-4 C13H21N = 191.31 g/miol 맑은 황색 액상 98 % 이상 산성 구리도금에서 고온사용 (40도) 과 전전류 영역에 빠른 광택으로 결...
  • 태양열 흡수용 흑색니켈도금을 한후, 고습도 챔버에 24 시간 방치하면 부식 되었고, 염수고농도의 환경에서 10~30일 사이에 변색되어 희게 탈색되었습니다. 원인을 알려 주...
  • 이것은 Terry Jones (이 저널에서 A. S. Pratt 에 의해 검토 됨) 가 쓴 2003년 책의 수정, 약간 업데이트 및 확대된 버전으로, 끝에 세개의 새로운 장이 추가되었다. 이책은...
  • 알루미늄 리소그래피 플레이트를 양극산화하는 수단으로 알루미늄을 처리하는 방법으로,이 방법은 다공성, 두께, 내마모성 및 화학적 비활성이 개선되었지만 오버코팅에 대...
  • 90 nm 제조 노드이하에서 구리공정 변수를 충분히 이해하여 구리도금을 허용하고 기술을 활성화 하였다. 구리도금의 핵심 문제에는 트렌치/비아 프로파일 및 종횡비 제...