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밀리파 투과성을 가진 무전해 니켈도금 피막의 형성
Dormation of Electroless Nickel Film Possessinf Millimeterwave Permeability

등록 2014.09.03 ⋅ 17회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회, 25권 2011년, 일어 2 쪽

분류 해설

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저자

馬場 邦人1) 渡辺 充広2) 北村 佳子3) 高橋 順子4) 太田 哲司5) 本間 英夫6)

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エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.11.08
밀리파 레이다카바에 대응하는 무전해니켈도금에 의한 전파 투과성을 가진 도금피막의 형성을 연구
  • IZE
    IZE [Lugalvan] IZE는 독일 BASF 사의 [이미다졸|이미다졸 (Imidazole)] 과 [에피클로로히드린|에피클로로히드린 (Epichlorohydrine)] 의 축합 생성물로 전기도금의 광택제 ...
  • 전자파실드성에 있어서 표면처리강팡의 영향인자를 규명할 목적으로 강판상의 수지부착량이 전자파실등성에 있어서 영향을 조사하고, 강판의 표면형태가 전자파실드성에...
  • 3가크롬 화성처리의 피막형성반응을 크로메이트 처리와 비교하였고, 실용 프로세스의 처리욕 및 피막특성에 관하여 해설
  • 무전해 구리도금의 이상석출 현상의 발생요인에 대해 분석했다. 이상석출은 욕중에서의 산화 제 1구리의 형성 및 용존산소 농도의 저하에 기인 한 것을 확인했다. 또한 용존...
  • 층 두께가 약 14 μm 인 선택적 영역 증착공정에 의해 생성된 연강소재의 주석-니켈 Sn-Ni 합금도금의 구조 및 부식특성과 관련하여 조사하였다. X-선회절 분석은 Sn-Ni 합금...