로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 10976건
크롬도금의 헐셀시험에 있어서 전위 및 전류분포의 측정
Measurement of potential and current distributions in HullCell test of chromium plating bath

등록 : 2008.08.05 ⋅ 44회 인용

출처 : 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
⋅ ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2016.02.03
헐셀판 표면의 전위와 전류밀도를 실측하고, 표면형태와의 관계에 관한 조사
  • 엔지니어링 응용분야의 경우 니켈전착이 물리적 및 기계적 특성에 적용된다. 광택과 레벨링은 거의 필요하지 않다. 또한 니켈두께는 훨씬 더 높으며 기능 니켈 피막은 종종 ...
  • 산 또는 중성용액을 이용하여, 글라스 표면을 에칭/리칭하고, 반사 방지막을 제작
  • 촉매 ㆍ Catalyst 촉매란 반응과정에서 반응속도를 변화시키는 물질을 말하며 소량으로도 반응 속도에 영향을 미칠 수 있다. 도금에서의 촉매는 [무전해도금]의 금속화 작업...
  • 금 Au 염으로서 염화금(iii) 산칼륨, 착화제, 안전제로서 아황산소다, 티오황산소다, 환원제로서 아스콜빈산소다를 사용하여, 시안화금칼륨-수소화붕소 화합물계 욕과 같거...
  • 일반 식 -R- 로 표시되는 도금욕으로 용해성 양이온 축합 폴리머를 포함하는 첨가제를 특수 제조된 아연욕을 사용하여 아연도금 된 알루미늄 소재에 매끄러운 금속코팅을 하...