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양이온 계면활성제가 포함된 산성욕에서 코발트-텅스텐 합금의 전착
Electrodeposition of cobalt–tungsten alloys from acidic bath containing cationic surfactants

등록 : 2015.03.21 ⋅ 30회 인용

출처 : Materials Letters, 57권 2003년, 영어 7 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.04.28
현재 작업은 크롬도금의 좋은 특성과 무공해 특성을 가진 특정 피막으로 대체하는데 전념하고 있다. 경도가 높은 코발트-텅스텐 합금은 전착공정에 의해 준비되었다. 온도, 전류밀도, 금속이온 농도 및 계면활성제의 임계농도를 포함한 도금공정의 최적조건을 연구했다. 양이온 계면활성제의 표면특성은 용액/공기 계면의 표...
  • 정밀제어를 과제로한 대표적인 금속도금의 연구개발, 기술개발 동향에 있어서 과제의 해결과 금후 필요한 기초해석의 동향을 소개
  • 현재까지 마이크로 전자공학 분야에서 재료의 중요성에도 불구하고이 작업 이외의 삼원합금 전착 모델이 없다. NiCoFe 삼원 전착을 위해 두가지 수치 모델을 개발하였다. 하...
  • 전압 ㆍ Voltage 도체에 전기를 흐르게 하려면 마치 물이 높은 곳에서 낮은 곳으로 흐르는 것과 같이 전기적인 높이의 차가 필요하다. 이 전기적인 높이를 전위 (electric p...
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  • 무전해 코발트 도금 ^ Electorless Cobalt Alloy Plating 무전해 코발트도금|1| 자성 도금용으로 전자산업의 Memory Disk 와 Storage Device에 사용 30 g/l Cobalt Chloride...