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전석막의 밀착성의 정량적평가방법의 검토 - 설파민산욕에서의 Ni 전석막의 밀착성
Quantification of Adhesion Property of Electrodeposited Film - Adhesion of Ni Electrodeposited from Sulfamate Solution -

등록 2015.03.24 ⋅ 36회 인용

출처 표면기술, 56권 7호 2005년, 일어 6 쪽

분류 연구

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電析膜の密着性の定量的評価方法の検討 -スルファミン酸浴からのNi電析膜の密着性-

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.12.04
원통형 접합 전극의 치수 측면에 전석을 하여, 그 전석에 의한 금속간 접합을 이용하여, 전석막의 밀착성을 정량적으로 평가하는 방법을 검토하였다. 또, 이 수법을 이용하여, Al, Cu 소지상에의 Ni 전석막의 밀착력을 정량적으로 평가하고, 밀착성에 미치는 요인을 조사했다.
  • 도금된 전착물은 환경에서 열처리된 전착물보다 내식성이 우수하며 양극 분극 거동이 다르다. 상기 도금의 특성을 구조와 미세형태에서 논의되었다.
  • 전자 장비 제조, 특히 컴퓨터 및 통신 분야에서 플라스틱 사용이 증가했다. 이것은 경제학에 의해 주도되어 왔고, 최소화 증가와 더 복잡한 설계를 가능하게했다. 플라스틱...
  • 석출속도 5 μm/hr 이상의 고속두께 무전해구리도금의 피막물성, 석출 속도에 관하여 설명하고, 이 액이 배선의 고밀도화, 기판의 고다층화에 적합한 것을 실험
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  • 크롬산 양극산화법 H2CrO4 = CrO3 + H2O ¨1) 반투명의 외관으로 광학기기·통신기기 등 고온부품에 사용 연질 (20 ㎛ 이하) 피막과 20 ㎛ 이상의 [경질피막]이 있다. 유백색 ...