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금 Au 도금중의 탈륨 공석량에 있어서 펄스법의 효과
Effect of pulse plating on the Ti content of Gold deposits

등록 : 2008.08.14 ⋅ 59회 인용

출처 : 금속표면기술, 39권 4호 1988년, 일본어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.04
결정의 미세화에 따른 펄스파의 전류 off 시에 탈륨 Tl 의 흡착이 촉진가능성을 생각하여, Tl 공석량저감을 목적으로, 금 Au 도금시의 전류파형으로서 정전류 펄스파의 적용을 검토
  • CVD
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  • 팔라듐을 첨가한 무전해 니켈-팔라듐-인 Ni-Pd-P 합금도금의 접점재료로서의 적용성에 관하여 검토
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  • 본질적으로 물, 시안화금소다 및 시안화금칼륨으로 구성된 그룹에서 선택된 가용성 금염 1리터당 약 20 mg ~ 약 30 g, 리터당 약 80 mg ~ 약 120 g 으로 구성된 이온대체 침...