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팔라듐 도금액
Palladium plating bath

등록 2008.08.23 ⋅ 78회 인용

출처 한국특허, 2005-0485762, 한글 7 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.06.01
거울면 광택이 우수한, 도금피막 5㎛ 이상의 크랙균열 발생이 없는 고순도의 안정한 팔라듐 석출물이 수득되는 팔라듐 도금액을 제공한다.
  • 연구목적으로 핵생성 및 성장 메커니즘 무전해 Ni-P 도금이 전기화학적으로 이질인 WE43 마그네슘 합금 소재에 적용되었다. 실험결과는 도금이 일부 입자경계와 매트릭스 전...
  • 규불화수소산 Hydrofluorosilicic acid, Fluorosilicic acid CAS No 16961-83-4 H2SiF6 = 144.08 g/mol 무색투명액상 시판 공업용 40% [크롬도금]의 촉매 참고 플루오르규산...
  • 시안화물 기반의 구리, 아연 및 카드뮴 도금공정에 시안화물 기반이 아닌 대안을 사용할수 있다. 이러한 대체 프로세스는 규제 및 보고 요구사항을 줄이고, 근로자에 대한 ...
  • 팔라듐 화합물, 암모니아 및 아민 화합물에서 선택된 하나 이상의 착화제, 포스폰산 및 프로피네이트에서 선택된 하나이상의 재화제, 불포화 카복실산 무수물, 불포화 카복...
  • 산성 전해 탈지 탈청제 ^ Electrolytic Acid cleaner 산성 용액을 주용액으로 하여 전해 탈지 탈청하는 방법으로, 황산을 주로 이용하며, 약간의 [이온봉쇄제] · [계면활성...