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높은 아스펙트비를 가진 전석 Ni 마이크로프로브의 제작
Fablication of electrodeposited Ni microprobes with a high aspect ratio

등록 : 2008.08.25 ⋅ 35회 인용

출처 : 표면기술, 52권 1호 2001년, 일어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Tetsuya OSAKA1) Fujio ASA2) Masaru KAWAMINAMI3) Tokihiko YOKOSHIMA4) Toshiyuki MOMMA 5) Hideo HONMA 6)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.04.06
전석법으로 보다 높은 아스펙비를 가진 프로브의 제작을 가능하게하기 위하여, 액중의 유기첨가제를 사용한 전석 Ni 마이크로프로브를 만들고, 첨가제가 프로브의 제작을 가능케하는데 관하여 검토
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  • 철-크롬-니켈 Fe-Cr-Ni 3원계 전석물의 물성을 X선회절과 오제분광 분석법에 의한 원소분석결과를 중심으로 요약
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  • PVD
    PVD ^ physical vapor deposition 물리 기상증착을 말하며, 증착하려는 물질을 진공 내에서 물리적인 방법으로 증발시켜 원하는 소재 위에 증착시키는 방법이다. 코팅하고자...
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