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고전류밀도 염화아연 도금 공정과 조성
High current density zinc chloride electrogalvanizing process and composition

등록 2008.09.02 ⋅ 56회 인용

출처 미국특허, 1997-5656148, 영어 21 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
고전류 밀도 덴드라이트 (HCD) 형성 및 엣지번을 감소시키고 할로겐화 아연 수용성 산성 전기갈바닉 도금욕으로부터 얻은 아연피막의 고전류밀도 거칠기, 입자크기 및 배향을 제어하기 위한 전기아연 도금공정 및 조성물이 개시된다. 수지상 방지제로 사용되는 나프탈렌 및 포름알데하이드의 설폰화된 축합물과 조합된 입자 ...
  • 고인 무전해니켈도금액으로 고내식과 높은 응용성의 무전해도금약품 우수한 부식저항성 압축응력 높은 두께도금 >10 mils 최소 핀홀 두께 > 0.4 mils 우수한 윤활성, 옾은 ...
  • 알칼리 금속 수산화물, 폴리옥시 알킬렌 폴리아민 촉진제 및 임의로 글리콜 또는 글리콜 에테르 촉진제의 혼합물을 포함하는 수성 페인트 박리 용액을 형성하는 데 유용한 ...
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  • 첨가제를 사용할때의 전석조건과 석출물의 성질, 액수명, 불순물의 영향, 음극 분극곡선등에 관하여 조사
  • 마그네슘은 실용금속중에 최고로 가벼우며, 합금은 비강도가 높고 주조성 수치안정성 전자파실드성 리사이클성등의 우수한 특성을 가지고 있다.