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전석 니켈-텅스텐 Ni-W 합금도금막의 미세구조와 자성특성
Microstructure and agnetic properties of Ni-W alloy films formed using electrodeposition

등록 : 2008.09.08 ⋅ 44회 인용

출처 : 연구보고, 6호 2003년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

電析Ni-W合金めっき膜の微細構造と磁기特性

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.09
고분해능 투과형전자 현미경 (HRTEM) 을 이용하여 원자의 배열을 관찰하고, 결정상과 아몰포스상과의 경계조성을 결정하였으며, 막의 자기특성을 측정하여, 막의 작성조건 도금막의 미세구조의 관계를 고찰
  • 환원제로서 차아인산소다를 함유하는 각종 도금 욕에서 얻은 무전해 Ni-P 막의 미세구조를 도금 초기에 전자현미경 및 회절법으로 조사하였다. 각 욕조에서 얻은 Ni-P 피막...
  • 저농도 및 고농도 구리용액이 전기도금 용액으로 사용되었다. 첨가로는 PEG-4000 (평균 분자량 4000) 을 사용하였으며, MPS (2-메르캅토 프로판설폰산소다), [[MES]...
  • 디메틸아민보란 ^ Dimethylamine boran (DMAB) CAS : 74-94-2 (CH3)2HNBH3 C2H10BN = 58.92 g/㏖ 성상 : 백색 결정 보관온도: 2~8 ℃ 무전해 니켈도금ㆍ무전해 금도금의 환원...
  • 전류효율이 40% 로 높고, 무도금부의 에칭이 없으며, 종래욕의 3~5 배의 도금속도를 가진 새로운 고속 크롬도금욕 HEEF에 관한 설명
  • 구리-인듐-세렌 Cu In Se2 (CIS) 박막은 수용액에서 펄스도금 전착을 사용하여 몰리브덴 소재를 준비하였다. 공동도금에 가장 적합한 펄스전위 범위는 선형전위 스캔곡선에...