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시안프리 구리도금욕의 정화
Purification of cyanide-free copper plating baths
등록
:
2008.09.18
⋅ 39회 인용
출처
:
미국특허
, 1993-5266212, 영어 11 쪽
분류
:
특허
자료
:
웹 조사자료
저자
:
Jeff Szotek
1)
기타
:
자료
:
분류 :
비시안욕
⋅
HEDP
⋅
목록
plating.kr 로고
Real Web Magazine
도금인의 소식지 표면처리세계
자료요약
카테고리 :
구리/합금
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.10.05
유기 포스포네이트 및 구리이온이 오염 물질이 포함된 전기도금조에서 제거될수 있는 공정이다. 과도한 아세테이트염 함량은 용액에 오염 물질을 남기고 제거될수 있는 구리/유기 포스포네이트 (HEDP) 도금의 석출을 유발한다.
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