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불활성 전해를 사용한 고 침투 산성 구리 도금
High-throw acid copper plating using inert electrolyte

등록 2008.09.18 ⋅ 44회 인용

출처 미국특허, 1992-5174886, 영어 11 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
적어도 하나의 스루홀의 직경에 대한 인쇄회로 기판 두께의 비율이 3 대 1 보다 큰 인쇄회로 기판의 개선된 스루홀 도금은 본 발명의 고투입 산성 구리 도금조에 의해 달성된다. 고 투과 산성 구리도금 조는 황산구리, 황산, 염화 이온 (예 : 염산), 캐리어, 광택제 및 알칼리 금속염으로 상기 도금욕은 pH 가 약 1 ...
  • 카드뮴 대체제품의 초기 유행의 모든 데이터가 검토 되었다. 3년간의 파일럿 실험실 및 현장 테스트에서 알칼리성 아연-니켈 방법이 선두주자로 나타났다. 그후 다양한 산업...
  • 철가루를 금이나 은.크롬도금을하고싶은데 그것이 가능하나요? 수십kg정도 하고싶은데 일반도금집에서하는것인지 비용이나 자세답변부탁드립니다 감사합니다
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