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전기도금용 불용성 양극 기술동향
na

등록 2008.08.03 ⋅ 73회 인용

출처 포항산업과학연구원, na, 한글 34 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 설비관련 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.26
현재의 문제를 해결하기 위해서는 물론 앞으로도 부식을 방지하하기 위해 방식기술을 발전시키고 또한 그러한 방식 뿐 아니라 금속 자체의 기능을 향상시키기는 동시에 금속 표면의 색채와 광택을 좋게하기 위한 여러 가지 금속의 표면처리기술 및 고성능의 전기도금용 불용성 양극에 관한 기술이 개발될 것임은 자명한 사실...
  • 니켈과 구리의 전기도금은 전기화학 산업에 있어서 이미 잘 알려진 기술로서 기존의 첨가제 역시 많이 개발이 되어있다. 그러나 도금하려고 하는 층의 형상이 매우 복잡...
  • 고 내식성 크롬도금욕 ^High Anti-Corrosion Chromium Plating 크랙ㆍ포어 발생원 명칭 욕의 종류ㆍ첨가물 약호 [크롬도금욕] 2층 [마이크로크랙크롬도금|마이크로 크랙 크...
  • 아연-니켈 Zn-Ni 부식 메커니즘은 적어도 90년대 이후로 조사 대상이 되어 왔으며 여러 저자의 노력에도 불구하고 Zn/Ni 부식 메커니즘의 일부측면은 여전히 논쟁 중이다. ...
  • 선진국의 양극산화피막에 관한 연구 정도와 그 응용의 기반을 확고히 하기 위한 설명으로 가장기본적인 연구과제인 양극산화피막의 Mormphology에 관한 내용
  • TEA 도금욕의 반응기구를 해석하기 위하여, 여러 TEA 계 첨가제에 따른 가속효과에 관하여 검토