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음극 저전류 밀도 에칭이 거의 없는 고효율 비-무지개, 밀착, 광택 크롬 석출물의 크롬 도금욕
Chromium plating bath for producing non-iridescent, adherent, bright chromium deposits at high efficiencies and substantially free of cathodic low current density etching

등록 : 2009.07.21 ⋅ 97회 인용

출처 : 미국특허, 1986-4588481, 영어 3 쪽

분류 : 특허

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.10
크롬도금조 및 공정이 음극 저전류 밀도 에칭이 실질적으로 없는 조건하에서 고효율 및 고온에서 무채색, 밀착성, 광택 크롬도금을 생성하는 공정을 연구하였다. 욕은 기본적으로 미리 결정된 농도의 크롬산과 황산염, 그리고 유기설폰산 또는 그 염으로 구성되며, 여기서 S 대 C의 비율은 ≥1/3 이었다. 메틸, 에틸 및 ...