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화학연마액 및 그 제조방법
CHemical Polishing and its produce method

등록 2008.09.03 ⋅ 116회 인용

출처 한국특허, 10-2002-0049876 (2002-08-22), 한글 7 페이지

분류 특허

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자료요약
카테고리 : 연마/연삭 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.19
도금강판 표면에 묻은 이물질, 얼룩 등의 불량요인을 제거하여 도금품질을 향상시키는 화학연마용액 제조방법에 관한 것으로, 도금판의 소재인 철과 도금 성분인 아연의 촉매작용으로 과산화수소가 급격하게 분해되는 것을 방지하여 과산화수소의 표백작용에 의한 도금판 색상 교정효과를 지속적으로 유지시켜 연마반응이 효...
  • 팔라듐 또는 팔라듐 합금의 무전해석출을 위한 수용성 도금욕 조성물과 이러한 수용성 도금욕 조성물을 이용하는 방법에 관한 것이다. 수용성 도금욕은 팔라듐 이온 공급원,...
  • 금속 제품의 수명에 영향을 미치는 주요 요인은 피막 시스템의 부적절한 선택 (20%), 금속 소재의 표면 처리 불량 (40%), 도금 두께가 불충분하거나 고르지 않음 (20%), 도...
  • 반도체 제조공정에서 첨단 소자 설계채택과 구리/저유전절연막의 통합이 진행되면서 호환가능한 새로운 세정화학액의 필요
  • 전해도금 방법에 의해 구리 박막을 제조하고, 첨가제로써 PEG 및 UREA 등을 사용하고 이에 따른 영향성을 여러 가지 분석장비(AES, XRD, SEM 등)를 이용하여 살펴보는데 그 ...
  • 메탄디설폰산소다 ^ Methan Disulphonic acid, Na (MDS) 백색 결정 분말 CAS. 5799-70-2 CH2Na2O6H2 = 200.13 g/mol 크롬도금용 첨가제 참고 [메탄설폰산] [크롬도금] wiki ...