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습식 에칭의 이론과 기술 동향
Theory of wet etching and its technical trend

등록 2010.01.14 ⋅ 71회 인용

출처 실무표면기술, 35권 11호 1988년, 일어 9 쪽

분류 해설

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기타

湿式エッチングの理論と技術動

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.10
습식 에칭의 기초로서 화학 용출의 전기화학적 기구, 디퍼런스 효과, 정크 효과 등에 관하여 설명하고, 원심력 에칭과 레이저 에칭 등에 관하여 설명
  • 그라비아 구리 도금 기술은 지난 몇 년 동안 크게 변화하고 향상되었다. 전기 기계 조각에는 UV 180-220 경도의 구리 코팅이 필요하다. 비교적 높은 경도에도 불구하고 우수...
  • 도금액의 조성과 도금조건을 여러가지로 변화시키면서 그때 얻어지는 도금층의 석출속도와 물성을 조사하여 최저의 도금액 조성과 도금조건을 찾아내며 얻어진 도금층을 열...
  • 설폰산 · sulfonic acid 탄화수소의 1개의 수소를 황산에서 OH 를 1개 제거한 설폰산기 (-SO3H) 로 치환한 화합물을 말한다. [메탄설폰산] (CH3SO3H), [벤젠설폰산] (C6H5SO...
  • 복합도금에 초진동교반기술의 적용가능성을 검토하기 위하여 초진동교반 공정조건에 따른 Ni-SiC 도금층을 제조하여 SiC 입자의 입도, 교반속도 등이 Ni 도금층내의 SiC 공...
  • 각종첨가제의 음극 분극현상에 있어서의 영향에 관한 검토로, 아연도금의 광택 생성기구에 관한 연구