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구리 평탄화에 대한 패턴 스케일 효과와 그 웨이퍼 및 구리 레베링 첨가제의 실험 연구
Experimental study of copper leveling additives and their wafer and pattern-scale effect on copper planarization

등록 2022.07.30 ⋅ 73회 인용

출처 Comptes Rendus Chimie, 16권 2013년, 영어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.08.06
Cu 레베링 첨가제가 전착된 Cu 지형 및 후속 평레베링 거동에 미치는 영향을 패턴 및 웨이퍼 스케일 에서 연구하였다. 레벨링 첨가제는 전착된 Cu 지형, 특히 '마운딩'을 크게 줄일수 있다. 레벨러 무첨가 화학물질로부터 전착된 Cu의 경우, 상당한 패턴 규모의 토포그래피가 거의 전체 레벨링 공정에 걸쳐 지속되는 반...
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  • 전기도금 공정 중 초기 핵생성과 성장에 미치는 음극표면의 영향을 관찰하기 위해, 우선 전해동박 생산공정 중 금속 음극 표면산화피막 변화에 주요원인을 찾아 실험조건을 ...
  • E-Brite 207은 일정한 경도를 지닌 연성 도금을 생성합니다. 경도 210 – 220 Hv로 자기 어닐링에 대한 저항성이 뛰어나고 조각 특성이 좋습니다. 유휴 기간이나 주말 가동 ...
  • MIRALLOY? is derived from “mirror” and “alloy” (= mirror alloy) and refers to the manufacture of bronze mirrors in antiquity. MIRALLOY? denotes electroplating pr...