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일렉트로닉스 실장에 있어서 기초 및 첨단도금기술
The nasics and leading edge technologies of plating for electronics packaging
자료 :
자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.12.29
반도체 패키지에 관련한 기초적인 도금기술의 연구사레에 관하여 설명하고, 일렉트로닉스 실장에 있어서 선단적인 도금기술과 나노테크노로지의 도금기술 전망에 관하여 설명
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피로인산욕을 사용하여 은-주석 Ag-Sn 합금을 전해하고 전해조건 (전류밀도, 온도, pH 등) 의 변화에 따른 합금층의 조성 및 균일전착성을 조사하고, 합금층의 우선 배...
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다공성 양극산화막에 대해서도 Keller, Hundter, Robinson 등이 실시한 선구적 연구에 의해 육각 셀 모델이 제창되었으며 지금도 다공성 양극산화막 기본 구조로 인식된다. ...
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니켈도금 공정의 속도론적 관점에서의 고찰은 전주 표면에서의 분극현상을 교란시켜서 도금 층 내의 성분을 변화할 목적으로 사카린 이온을 첨가하여 초음파 [[펄스도금...
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AZ41 마그네슘의 은 Ag 도금공정을 제시하였고, 은도금 공정과 마그네슘 합금의 적절한 기술 공식 변수를 식별하였다. 얻어진은 피막은 밝고 균일하며 미세하였다. [[밀...