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무전해 구리 석출에 대한 EDTA/THPED 이중 리간드의 영향
Influence of EDTA/THPED Dual-Ligand on Copper Electroless Deposition

등록 : 2023.08.15 ⋅ 45회 인용

출처 : Electrochem. Sci., 13권 2018년, 영어 12 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Lu Jianhong1) Jimmy Yun2) Lei Haiping3) Tu Jiguo4) Jiao Shu-qiang

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.08.15
단일 리간드 무전해 도금 공정은 지난 수십 년 동안 광범위하게 연구하였으며, 이 연구는 무전해 도금 공정에서 이중 리간드 시스템 (EDTA/THPED) 을 사용하는 이점을 조사하였다. Tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine (THPED) 농도를 증가하면 전극 전위가 음으로 이동하는 것으로 나타났다. 전류 밀도는 THPED 농...
  • 아연피막은 온도와 산화제 착화제가 첨가제 3가크롬액의 변조에 따라 또다른 pH 범위에서 부동태 된다. 50 g/l NaCl 용액 시험에서 아연피막의 부식저항의 공정변추를 시험...
  • 용액 용해성 구리 염 및 산성 전해질을 포함하는 전도성 표면에 구리를 전기 도금하기 위한 조성물로서, 상기구리 염은 용액 리터당 약 1 ~ 10 g의 농도로 존재하고, 상기 ...
  • 마이크로 글루브의 상향식 전착을 설명하기 위해 염화물 이온 소비 모델을 제안하고 전해질에 폴리에틸렌글리콜 (PEG) 과 염화물 이온 (Cl-) 만 첨가하여 마이크로 그루...
  • 보론프리 염화욕의 특징 도금속도가 빠르다 소재선택성이 없다 액전압이 낮다 작업환경이 좋다(저미스트) 피복성, 밀착성이 좋다 폐수처리성이 좋다(아연 침전성, 저질소, ...
  • 크롬은 크롬이 용해성 Cr6+ 화합물로 존재하는 크롬산 기반 공정 또는 크롬이 용해성 Cr3+ 로 존재하는 3가욕에서 도금될수 있다. 두 용액 중 하나에서 생성된 크롬도금은 C...