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5-5-디메틸히단토인을 착화제로 사용한 산성 카드뮴 도금 공정 최적화
Optimization of acidic cadmium plating process using 5 5-dimethylhydantoin as complexing agent

등록 : 2023.12.22 ⋅ 21회 인용

출처 : Plating and Finishing, 45권 1호 2023년, 중국어 7 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Huang Yong1) Wu Ning2) Hu Zhongqing3) Li Xuyong4) Zhang Dongsheng5) Li Qiong6) Wang Shuaixing7) Du Nan8)

기타 :

5，5-二甲基乙内酰脲配位体系酸性镀镉工艺优化

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분류 :
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.30
시안화물이 없는 카드뮴 도금의 불안정한 도긍욕의 안정성 및 도금성능 문제를 해결하기 위해 5,5-디메틸히단토인 (DMH) 을 주요 착화제로 사용하고 CdCl2를 주요 염으로 사용하는 새로운 카드뮴 도금 공정 연구하였다. 카드뮴 염 및 DMH 함량의 영향, 보조 착화제의 유형 및 농도, pH 값, 전류 밀도를 헐셀 테스트 및 ...

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