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계단식 전류 조정을 이용한 구리 전착에 의한 비아 충진
Via-filling by Copper Electroplating using Stepwise Current Control

등록 2014.06.05 ⋅ 36회 인용

출처 Electrochemistry, 74권 3호 2006년, 영어 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
첨가제의 선택과 그 농도를 제어하고 단계적 전류제어를 적절하게 선택하여 비아필링의 준비를 설명하였다. 또한, 구리도금에 대한 첨가제의 영향은 전기화학적 측정을 사용하여 연구하였다.
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  • 니켈 철 합금전착은 컴퓨터 메모리 장치용 박막 자성피막으로 사용되는 것과 관련하여 실질적인 관심이 높다. 81 % 니켈과 19 % 철을 포함하는 이원합금은 이러한 피막이 무...
  • 무전해니켈도금 기술로 적용한 니켈-이트리아 안정화 지르코니아 (YSZ) 서멧 피막의 조성에 대한 계면활성제의 영향을 조사하였다. 음이온성 계면활성제인 [[도데실설폰...
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  • 균일전착성의 요이을 해설할 목적으로, 각종 니켈도금욕에 관한 할세을 이용한 균일전착성을 측정하고, 욕조성에 의한 균일전착성의 사른점을 비교검토