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전기화학적 방법에 의한 실용적 구리 모니터링
Practical Methods to Monitor the Properties of Copper Plating Using Electrochemical Techniques

등록 2009.11.26 ⋅ 46회 인용

출처 표면기술, 59권 12호 2008년, 일어 6 쪽

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.10
도금현장에서 사용되는 전기화학적 방법으로는 CVS 방법이 넓게 이용되고 있으나, 여기서는 그와 다른 새로운 전기화학적 방법을 이용한 분석방법을 소개
  • 일반식의 피리디늄 화합물이 첨가제로서 용해되지 않은 pH 3.5~7.5 의 산성아연 전기도금조가 제공된다. 벤젠 또는 나프탈렌 설폰산 또는 이의 염과 포름 알데하이드의 수용...
  • 프라스틱 무전해도금용 파라듐 촉매금속으로 스타더스트 와 스킵 도금의 발생이 없어 노브러싱작업을 할 수 있다. 원랙방식으로 도금이 가능하여 자동화 도금에 최적이...
  • 금속의 산화환원 반응 ^ Metal reduction-oxidation(redox) 반응성과 산화ㆍ환원 반응성이 큰 금속 전자를 잃고 산화되기 쉽다. (Zn→ Zn2++2e-) 반응성이 작은 금속 전자를...
  • 미크론 기술을 결집한 전자부품의 연구개발, 특히 미세배선기 형성에 있어서 표면 계면 나노테크노로지의 응용에 관한 연구결과 소개
  • 도금두께측정기의 원리, 측장방법, 적용범위, 특징등의 간략한 설명