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전기화학적 방법에 의한 실용적 구리 모니터링
Practical Methods to Monitor the Properties of Copper Plating Using Electrochemical Techniques

등록 : 2009.11.26 ⋅ 25회 인용

출처 : 표면기술, 59권 12호 2008년, 일어 6 쪽

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.10
도금현장에서 사용되는 전기화학적 방법으로는 CVS 방법이 넓게 이용되고 있으나, 여기서는 그와 다른 새로운 전기화학적 방법을 이용한 분석방법을 소개
  • 무전해 니켈-인 Ni-P 도금막의 조직변화가, 도금을 한 강판의 평면굴곡 피로강도에 주는 영향을 검토하고, 도금처리를 여러 온도에 소성한후 피로시험을 실시하였다. 도금상...
  • 시안화은 Ag 도금액중의 은 정량에서, 은 시안화염을 과황산칼륨과 질산을 이용하여 분해할때 유독가스가 발생하면 도금액을 분해하여 EDTA 로 은을 정량하면 빠르게 분석할...
  • 무전해도금 구현에 대한 사례 연구. 플라스틱 프로그램 (POP)에 대한 도금은 19980 년 중반에 시작되었습니다. 그것은 주로 전자파간섭(EMI) 보호를 목적으로하는 POP를 플...
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  • 킬레이트 · Chelate Agent 금속이온에 배위하여, 환상구조를 갖는 착화합물 (킬레이트) 을 만드는 화학물질로 비공유 전자쌍을 줄 수 있는 작용기를, 2개 이상 가지고 있는 ...