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헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
Measurement of Potential and current distriburions in HUll Cell test

등록 2010.01.07 ⋅ 75회 인용

출처 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.15
헐셀판에 프린트 회로용 기판을 이용하여 간단히 전류분포를 측정는 방법의 실험
  • 3가 크로메이트의 필요성 3가 크로메이트의 특성 기술적 고찰 1) Mechanism 2) SEM image 3) 내식성 4) 크로메이트시 주의점 5) 작업 process 6) 참고사항 3가 흑색크로메이...
  • 다층도금에 의한 방식의 대표적인 것으로 니켈-크롬 도금이 있습니다. 크롬은 니켈애 대하여 (-) 로 작용하여, 쉽게 부식될것 같으나, 실제로는 산화되기 쉬운 금속으로 부...
  • 주파수특성 개선을 목표로, 금속 자성체로서 철니켈 합금, 고저항체로서 구리산화물을 이용하고, 양자의 전해법으로 만들고, 금속자성체 고저항체 금속자성체로서 다층구조...
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  • 무기 고분자 재료로서 주목받는 실리카졸 및 알칼리 규산염 수용액의 특징과 성질에 관하여 소개하고, 화성처리, 봉공처리, 연마처리, 도장등의 금속표면처리 분야에의 응용...