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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
Measurement of Potential and current distriburions in HUll Cell test

등록 2010.01.07 ⋅ 57회 인용

출처 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.15
헐셀판에 프린트 회로용 기판을 이용하여 간단히 전류분포를 측정는 방법의 실험

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