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FTIR ATR법에 의한 무전해 구리도금욕 중의 욕성분의 모니터링
Monitoring of the composition of electroless copper plating bnaths by FTIR ATR spectrometry

등록 : 2010.05.31 ⋅ 62회 인용

출처 : 회로실장학회, 10권 4호 1994년, 일어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.11
EDTA를 착화제로한 무전해 구리도금욕의 기본 욕성분인, EDTA, 포르마린, 도금반응등에 따른 부생성물인 메탄올, 기산 및 구리염의 보급에 따라 축적되는 황산염을, FTIR ATR법으로 모니터링하는 방법에 관한검토
  • 전기도금에서는 버핑을 추기하지 않고 미세 기계적인 마감처리 할수없는 영역에서 허용가능한 수단으로 광택도금을 형성하는 것이 바람직 하다. 이러한 제약은 버핑 또는 기...
  • 주석-납의 전기도금 및 스트리핑을 위한 가능한 대체 화학물질을 결정하기 위해 평가하였다. 우리의 첫 번째 목표는 유해 폐기물 감소였습니다. 전기도금 공정에서 납(중금...
  • 금 Au 합금의 전착공정이 몇년 동안 사용 가능했지만 지금까지 전자 산업에서 거의 적용되지 않는다. 이 기사는 10월 암스테르담에서 개최된 제9차 세계 금속 표면처리 회의...
  • 실제적인 금속이온회수 연구에 앞서 국내외 도금폐수 처리현황과 운전실태를 파악하고 현재까지 연구된 금속이온 회수방법들을 조사함으로써 차 후 금속이온 회수연구에 필...
  • 건식으로 첨가될수 있는 전형적인 보충제는 염화니켈과 같은 니켈이온의 가용성 공급원, 니켈 이온용 환원제, 욕 안정제, 광택제, 내구성 제 등을 포함 한다.