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무전해도금 처리방법 및 무전해도금 처리장치
Electroless plating treatment method and equipment

등록 2008.09.22 ⋅ 33회 인용

출처 한국특허, 2005-0507019, 한글 17 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.05.30
환원제를 포함한 첨가제를 공급한 후, 처리체에 대하여 황산구리 용액 등의 금속 이온을 포함하는 용액을 공급한다. 첨가제와 금속 이온을 포함하는 용액을 분리하기 때문에, 도금액의 조성의 조정이 용이해진다
  • 토세이셀 (롱셀) ㆍ TOSEI Cell 일명 롱셀 이라고도 부르며 기존 [헐셀]보다 음극을 크게하여 저전류부를 확대하여 시험할 수 있다. 시험 액량은 500 ml 야마모토 시험기의 ...
  • 아연도금 강판에 Cr6+ 프리 저환경부하 처리 액에 의해 화성처리한 경우의 피막의 화학조성, 구조, 내식성을 조사했다. 피막은 ZnO, Cr2O3 의 미세 결정을 포함하고, 각 처...
  • 금속염, 무전해 환원제, 착화제를 포함하는 안정한 무전해금속화 도금조와 상기 표면을 접촉시키는 것을 포함하며, 입자상 물질을 포함하는 금속도금으로 그 표면상의 몸체...
  • 걸이는 배럴에도 속하지 않는 기타 도금방법으로 소개되는 기술이다. 타자기, 프린터 등에 사용되는 인쇄다이얼을 다음과 같은 목적을 가지고 플라스틱화 하기 위해 전기도...
  • Quarts-crystal microbalance법 (이하 QCM) 을 이용하여, 여러 도금욕 조성 및 조작조건에 있어서, 금속의 석출량을 연속적으로 측정하여, 팔라듐 박막의 성장속도와 석출형...