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무전해도금을 이용한 IC 미세접합 기술
Micro-connection for IC bonding using electroless plating

등록 : 2008.08.02 ⋅ 32회 인용

출처 : 표면기술, 54권 2호 2003년, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.22
고성능 SIP를 살현하기위하여 필요한 기술로서, 특히 확립이 급무한 IC 미세접합에 관한 기술보고
  • CVS
    CVS· 순환 전류 전압법 ^ CVS (Cyclic Voltammetric Stripping) 측정액 중의 회전 백금전극에 일정한 전압을 가하고 회전속도를 가감하면, 금속이온이 백금전극에 부착(도금...
  • 마그네슘 합금표면에서 먼저 니켈-인 Ni-P 층을 무전해도금하는 NI-P 층, 전기도금 Ni, 높은 내식성 Ni-P/Ni 도금 및 부식침지 방법은 무전해도금 시간 및 전기도금 시간의 ...
  • 리뷰는 1996년 2월에 금속 시니딩이 발행된 1995년에 대한 저자의 리뷰가 완료된 이후의 진행 상황을 다룬다.
  • 표면장력 요구 사항은 미국 환경보호국 (EPA)의 Chromium MACT에 기록되었다. 크롬도금 과정에서 생성된 가스 거품이 탱크 액표면으로 올라와 파열되기 때문이다. 파열된 작...
  • 무전해 도금에 있어서 양호한 접합성을 얻으려고, 표면 금도금을 얇게 형성하여 최적인 도금방법을 만들 목적으로하여, Ai/Au, Ni/Pd/Au로 와이어 접합성, 도금표면 형태에 ...