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무전해도금을 이용한 IC 미세접합 기술
Micro-connection for IC bonding using electroless plating

등록 2008.08.02 ⋅ 50회 인용

출처 표면기술, 54권 2호 2003년, 일어 4 쪽

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.22
고성능 SIP를 살현하기위하여 필요한 기술로서, 특히 확립이 급무한 IC 미세접합에 관한 기술보고
  • Co-Fe 합금전석막의 미세구조를 전조성범위에 관하여 상세히 해석한 결과 보고
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  • Tamol NN 9104 ^ Na, naphthalenesulfonic acid-formaldehyde-polycondensate CAS : 9084-06-4 산성 아연ㆍ주석ㆍ은 도금용 광택ㆍ분산제 고압 스프레이 탈지제 알루미늄 [...
  • 2M-5S 와 유사한 구조를 가진 각종첨가제를 이용한 효과를 조사하고, 효과를 발휘하는 구성원자 또는 관능기에 관한 검토
  • 텅스텐 ㆍ Tungsten (W) WIKI 텅스텐 참고 [텅스텐소재무전해도금|텅스텐 소재의 무전해도금] [텅스텐소재도금|텅스텐 소재의 도금] 텅스텐과 관련된 노트