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무전해도금을 이용한 IC 미세접합 기술
Micro-connection for IC bonding using electroless plating

등록 : 2008.08.02 ⋅ 22회 인용

출처 : 표면기술, 54권 2호 2003년, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.22
고성능 SIP를 살현하기위하여 필요한 기술로서, 특히 확립이 급무한 IC 미세접합에 관한 기술보고
  • 독일의 R. Boettger 교수는 니켈 암모늄 설페이트 용액을 사용하여 니켈 제품을 성공적으로 전기 주조하였다. 19세기 후반에는 철을 이용한 전기주조도 연구되었다. 구리, ...
  • 항공기 강착장치의 재질 및 수리공정, 수치회복을 목적으로한 부분니켈, 경질크롬, 방식 수소취성방지를 목적으로한 카드뮴-티타늄 도금등 특이한 표면처리를 설명
  • 철 동 알미늄 세라믹유리등에 사용되는 무전해니켈도금액 미도금및 얼룩현상 발생하지 않고 턴수증가에도 안정성 우수
  • 구리 모제에 주석도금한 버스바와 황동 모제에 은도금한 조인트의 볼트 체결 후 전기적 전도성의 향상을 위해 결합면에 납땜 공정을 진행 하고 있습니다. 납땜은 조인트(황...
  • 모델에서 6가크롬의 회수와 TBP (tri-n-butyl phosphate)를 사용한 용매추출에 의한 실제 전기도금 유출물이 연구되었다. 다른 산성욕에서 TBP로 크롬(vi) 추출은 HCl > H2S...