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경질금 Au 의 전착에 대하여
On the electrodeposition of hard gold

등록 : 2012.11.10 ⋅ 15회 인용

출처 : Applied Electrochemistry, 9권 1979년, 영어 14 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.07.09
2 pm 층에서 경질 금의 전착을 조사했다. 전해질은 코발트를 첨가제로 사용하는 산성 구연산욕 (pH 3.5) 이었다. 실험에서 다음 기능을 정량적으로 조사했다. 금 도금의 현재효율 (10~30 %), 탄소 및 코발트 함량, 석출물의 다공성, 형태, 50 mA cm-2 이상 전류에서 금의 석출과 약간의 코발트 혼입이 질량 이동을 제한한다 ...
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  • 무전해 도금을 하기 위한 전처리로서, 염산성의 제1주석 이온 용액과 염산성의 팔라듐 이온용액에 순차적으로 도금물을 침지 처리하는것으로 알고 있다. 그러나 이 방법은 ...
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  • 테노리셀 ㆍ Tenori HullCell 금도금 · 귀금속 도금 등의 도금액 실험을 위한 액량 33 ㎖ 의 소형 HullCell 조 참고 [헐셀조] [헐셀시험]
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